拉絲面曝光顯影廠信賴推薦 利成感光

酸能利用化學反應溶解金屬。借此在金屬表面蝕刻出圖案，便可以替代勞動密集型且技術要求更高的手工雕刻。法國學者耶罕·勒貝格在1531年寫下了酸浸蝕鐵的配方。他從水與醋的混合物中提煉出出氯化銨、普通的明礬和流酸亞鐵。基本原則大體是：金屬被蝕刻時先要徹底清洗，之后圖上一層耐酸物質。這被稱作為“抗蝕層”。在蠟層中刻出圖案，使底下的金屬部分顯露出來。制備好的金屬材料被浸漬在鹽酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的區域被刻蝕到所需的深度。之后將抗蝕層清除，就可展現出蝕刻的成品樣子。燙金或者發黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統雕刻更方便而代價更少。


比較適宜的顯影溫度范圍是20~25℃。顯影時間對PS版的顯影質量有直接的影響，顯影時間不足，非圖像部分的感光層不能徹底溶解，會引起版面起臟。顯影時間越長，顯影就越徹底，但顯影時間過長，對印版上網點曝光虛邊過渡的侵蝕作用也越深人，版面上的細小網點容易丟失而如果顯影液的濃度偏低，堿性過弱，會使顯影速度過慢,容易出現顯影不徹底、版面起臟和暗調小白點糊死等現象。


若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時，紫外光透過照相底片上透明部分并產生折射、衍射現象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來不應該發生光聚合反應的該部分干膜，被部分曝光后發生聚合反應，顯影時就會產生余膠和線條過細的現象。因此，適當的控制曝光時間是控制顯影效果的重要條件。


曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。同時在批量生產時，還應該注意當紫外光管長期運行過程中，產生溫升，熱輻射量大，在底片下的干膜上發生類似與紫外線照射為類似作用，使干膜聚合，也稱熱聚合反應。為此，這就要求曝光機應有冷卻裝置。