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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 ：

磁控濺射的基本原理是電子在電場作用下加速飛向基片的過程中與原子發生碰撞，若電子具有足夠的能量時， 則電離出離子和另一個電子（二次電子）。鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：烘烤溫度：真空室抽氣時烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調純正的重要因素之一。電子飛向基片，離子在電場作用下加速飛向陰極 （濺射靶） 并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉積在基片上形成薄膜， 二次電子在加速飛向基片時受磁場的洛侖茲力作用以擺線和螺旋線狀的復合形式在靶表面作圓周運動。

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鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：

真空度：真空度是指處于真空狀態下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

ya氣越少，靶材濺射量越少，但真空度越高,氣體分子自由程越大，散射越少，粒子碰撞幾率越小，粒子遷移過程中損失的動量越少，沉積速率越大

PLD缺點：1、在鍍膜過程中，薄膜會被沉積在薄膜上的等離子本管中產生的微粒、氣態原子和分子降低質量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制摻雜、生長平滑的多層膜等方面PLD生長部比較困難，因此進一步提高薄膜的質量會比較困難.