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鍍硬鉻原理

在盛有電鍍液的鍍槽中，經過清理和特殊預處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽極，兩極分別與直流電源的負極和正極聯接。

電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類、緩沖劑、pH調節劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的作用下移動到陰極上形成鍍層。

鍍硬鉻工藝分類

防護一裝飾性鍍鉻 防護一裝飾性鍍鉻俗稱裝飾鉻，鍍層較薄，光亮美麗，通常作為多層電鍍的蕞外層，為達到防護目的，在鋅基或鋼鐵基體上必須先鍍足夠厚的中間層，然后在光亮的中間層上鍍以0.25～0.5μm的薄層鉻。

常用的工藝有Cu/Ni/Cr、Ni/Cu/Ni/Cr、Cu—Sn/Cr等。經過拋光的制品表面鍍裝飾鉻后，可以獲得銀藍色的鏡面光澤。在大氣中經久不變色。這類鍍層廣泛用于汽車、自行車、縫紉機、鐘表、儀器儀表、日用五金等零部件的防護與裝飾。        經過拋光的裝飾鉻層對光有很高的反射能力，可用作反光鏡。

在多層鎳上鍍微孔或微裂紋鉻，是降低鍍層總厚度，獲得高耐蝕性防護一裝飾體系的重要途徑，也是現代電鍍工藝的發展方向。

鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內變化。例如，當溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內變化，甚至高達800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴重，不僅造成材料的浪費，更主要的是會造成嚴重的環境污染。而低濃度鍍液對雜質金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當SO42-含量過高時，對膠體膜的溶解作用強，基體露出的面積大，真實電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當SO42-含量過低時，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區放電長大，所以，鍍層發灰粗糙，光澤性差。

不銹鋼表面電鍍鉻的目的

不銹鋼表面電鍍鉻的目的是什么？不銹鋼是灰銀白，鍍鉻之后是白銀白色，不銹鋼鍍鉻為了就是為了提銹性、改善外觀。

不銹鋼鍍鉻的通用方法

(1)不銹鋼鍍鉻前可采用活化-預鍍鎳的方法獲得底層，然后在鍍鎳層上鍍鉻，可獲得結合力良好的鉻層。

(2)小電流陰極活化-階梯式電流給電-沖擊電流鍍鉻-正常電流鍍鉻至所需厚度出槽，如此四個階段的處理和電鍍可以得到結合力良好的鍍層。

鍍硬鉻廠家介紹420nm窄帶濾光片主要作用是使特定波長的光通過，鍍硬膜,使用壽命長,波長定位精離子蒸鍍,溫度漂移小，穿透率高,截止深度高讓其他波長的光的反射(或衰減)光學元件。半波寬度通常控制在20nm或者更小，可紫外線，可見光，近紅外線波長，遠紅外波段.我公司的窄帶濾光片采用多層硬膜經離子輔助沉積納米材料高真空蒸發而成，膜層致密性好，成像清晰度高。