莞城充電寶LOGO曝光顯影廠家信息推薦「利成感光」

IMD模內注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國際流行的工藝，其實這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問題真正應用到產品設計領域并不久，IMD工藝采用模內高溫注塑，一個手機殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質檢等多個流程，把畫面植入殼體中間層，永遠不會褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強，高清，臟的時候一擦就干凈了，相對來說優點還是很多的。

曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分，它是圖案準確度的決定性因素，因此曝光顯影管控非常重要。蝕刻加工的優點主要體現在：產品沒有毛刺，大批量，密集的小孔同樣可以穩定的批量生產.精密度可以更高，較高管控的精度可以達到 /-0.005mm,特別適合精密薄材的不銹鋼，銅等材料的蝕刻加工，其優點主要體現在不變形，公差要求嚴.加工出的產品沒有毛刺、無臟污、表面光滑，蝕刻加工其他機械工藝無法加工的高精密產品！

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產效率越高，反之生產效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對于整體蝕刻或成型的化學蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個面同時進行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個面進行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。

對常用金屬材料的蝕刻以現有技術水平完全可以做較高的蝕刻速度可達0.1m/min以上這么快的速度需要腐蝕能力更強的配方及更高的溫度，為了維持溶液成分的相對穩定可以采用大體積或自動分析調整技術，但在這里就有一個可用于批量生產的防蝕層怎么制作的問題本書中所講的一定是批量生產而不是實驗室的工作。

所以快的蝕刻速度只是一個相對概念，是在容易控制的同時，防蝕層制作成本可接受、蝕刻深度均勻的前提下快的蝕刻速度才是有意義的。