山東六氟化硫用途的行業須知,江蘇凱美電子

SF6氣體已有百年歷史，它是法國兩位化學家Moissan和Lebeau于1900年合成的人造惰性氣體，1940年前后，美國軍方將其用于曼哈頓計劃（核軍事）。

SF6是強電負性氣體，它的分子極易吸附自由電子而形成質量大的負離子，削弱氣體中碰撞電離過程，因此其電氣絕緣強度很高，在均勻電場中約為空氣絕緣強度的2.5倍。SF6氣體在t≈2000K時出現熱分解高峰，因此在交流電弧電流過零時，SF6對弧道的冷卻作用比空氣強得多，其滅弧能力約為空氣的100倍。電子捕獲檢測器也是一種離子化檢測器，它是一個有選擇性的高靈敏度的檢測器，它只對具有電負性的物質，如含鹵素、硫、磷、氮的物質有信號，物質的電負性越強，也就是電子吸收系數越大，檢測器的靈敏度越高，而對電中性（無電負性）的物質，如烷烴等則無信號。由于SF6氣體具有優良的滅弧性能和絕緣性能以及良好的化學穩定性，它從20世紀50年代末開始被用作高壓斷路器的滅弧介質。在超高壓和特高壓斷路器中，SF6作為滅弧介質，已取代油，并已大量取代了壓縮空氣。

制備

1、直接合成法 經凈化后的氟（含HF≤0．5%）和硫反應生成六氟化硫及少量的S2F10、SF4、SF2和S2F2。因此，為保證六氟化硫的純度和質量，對出廠的六氟化硫國際電工委i員會（IEC）及許多國家均制定了質量標準，并要求生產廠家在供貨時提供生物試驗無毒證明書。經水洗、堿洗除去絕大部分雜質氣體，再經熱解爐分解S2F10成SF6和SF4（300～350℃），然后經堿洗進一步除去雜質，凈化后的SF6氣體經硅膠及分子篩干燥器干燥后，制得六氟化硫產品。

將硫、二氯化LIU、一氯化硫、二liu化碳或硫化氫等加入到無水氟化氫中，以鎳為陽極進行電解即可制得六氟化硫。或氟和硫直接反應制備六氟化硫。還可以金屬氧化物為催化劑于300℃下用空氣氧化四氟化liu，或者在500～2000℃使氟化硫熱解。

純凈的SF6氣體雖然無毒，但在工作場所要防止SF6氣體的濃度上升到缺氧的水平。SF6氣體的密度大約是空氣的五倍、SF6氣體如有泄漏必將沉積于低洼處，如電纜溝中。濃度過大會出現使人窒息的危險，設計戶內通風裝置時要考慮到這一情況。

高壓擊穿技術。

Dian擊穿技術是從SF6在電力上的典型應用——作為絕緣氣體應用在GIS開關柜中演變而來的。其工作原理是根據SF6氣體絕緣的特性，從置于被檢測空氣中的高壓電極間Dian壓的變化來判斷空氣中是否含有SF6氣體。用途：可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。因其結構相對簡單，成本低，檢測精度相對高的特點。

高純六氟化硫的應用

 六氟化硫的使用可以增加設備運行的安全性、縮小設備體積、延長設備壽命。近幾年，國家大力發展基礎電力行業，給六氟化硫廠家帶來了很大的市場機遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國內需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導體工業中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。

 該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時，還顯示出了極i佳的環保前景，近年來用量有明顯的提高。

 據權i威機構預測，2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場，總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右，

 國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條，在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。除在上面的合成過程中產生的雜質外，另外，在氣體的充裝過程中還可能混入少量的空氣、水分、和礦物油等雜質，這些雜質均帶有或會產生一定的毒性物質。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求，半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口，這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。