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不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。光學鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。 次數用完API KEY 超過次數限制

PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術，該技術使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術主要分為三類，真空蒸發涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應于三類PVD技術，相應的真空鍍膜設備還具有三種類型：真空蒸發鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過去的十年中，真空離子鍍技術發展迅速，并且已成為當今zui先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。 次數用完API KEY 超過次數限制

蒸發鍍膜過程中，從膜材表面蒸發的粒子以一定的速度在空間沿直線運動，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時，這些粒子從蒸發源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會產生碰撞而改變運動方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。當真空容器內蒸發粒子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離(以下稱蒸距)時，就會獲得充分的真空條件。設蒸距(蒸發源與基片的距離)為L，并把L看成是蒸發粒子已知的實際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設從蒸發源蒸發出來的蒸汽分子數為N0，在相距為L的蒸發源與基片之間發生碰撞而散射的蒸汽分子數為N1，而且假設蒸發粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數用完API KEY 超過次數限制

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分，一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色pian。 次數用完API KEY 超過次數限制