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真空鍍膜機(jī)濺射工藝

真空鍍膜機(jī)濺射工藝主要用于真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕和薄膜沉積兩個(gè)方面。濺射刻蝕時(shí)，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進(jìn)行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕時(shí)，應(yīng)盡可能從真空鍍膜機(jī)濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時(shí)，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的，則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜；若在濺射室內(nèi)有意識(shí)地引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來(lái)的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個(gè)數(shù)量級(jí)，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時(shí)襯底加適當(dāng)?shù)钠珘海梢约骖櫼r底的清潔處理，這對(duì)生成薄膜的臺(tái)階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機(jī)濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對(duì)靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應(yīng)用于表面分析儀器中，對(duì)樣品進(jìn)行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機(jī)濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來(lái)源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個(gè)高的負(fù)電位，正離子被此電場(chǎng)加速后獲得動(dòng)能轟擊靶極產(chǎn)生濺射，同時(shí)不可避免地發(fā)生電子對(duì)襯底的轟擊。

電子束鋼帶真空鍍膜機(jī)有許多長(zhǎng)處有哪些

1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點(diǎn)約束。因而，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫以外，簡(jiǎn)直一切的金屬資料都能夠蒸鍍，還可鍍品種許多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的發(fā)生。

3、帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能取得均勻、滑潤(rùn)且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱外表活化，鍍膜純度高，沒有中心硬脆的合金層，能夠一次沖壓成型，甚至能夠卷成直經(jīng)很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏，改動(dòng)品種方便，能夠依據(jù)商品請(qǐng)求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，能夠一同鍍兩種資料到達(dá)鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控，并且能夠鍍制超薄膜。

真空鍍膜機(jī)使用前的準(zhǔn)備工作

在使用真空鍍膜機(jī)前，必須詳閱使用說(shuō)明書，熟悉整機(jī)結(jié)構(gòu)原理，各部件的作用和操作方法。

1、確認(rèn)水、電、氣均已安裝無(wú)誤后，先試運(yùn)行滑閥泵、羅茨泵，其轉(zhuǎn)動(dòng)方向要與各泵規(guī)定的方向一致。

2、檢查設(shè)備的各個(gè)動(dòng)力傳動(dòng)裝置運(yùn)轉(zhuǎn)是否正常。

3、檢查卷繞車的開動(dòng)情況，檢查卷繞車與真空罐對(duì)接的密封是否可靠，檢查裝于導(dǎo)軌上的各個(gè)行程開關(guān)是否工作正常，檢查履帶的安放及定位情況是否完好。

4、按照從低真空到高真空的次序，逐級(jí)調(diào)試真空系統(tǒng)，檢查各個(gè)環(huán)節(jié)的密封是否可靠，各個(gè)閥門開閉是否靈活，霍爾開關(guān)位置是否正確，各真空泵均應(yīng)運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)、無(wú)異常振動(dòng)、無(wú)異常噪音。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位（180°位移）時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長(zhǎng)和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長(zhǎng)度，并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過單層增透膜例子說(shuō)明。當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時(shí)，在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí)，這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。