化學鎳價格誠信企業,天強鍍錫

鎳磷鍍的基本原理是以次亞磷酸鹽為還原劑，將鎳鹽還原成鎳，同時使金屬層中含有一定的磷，沉淀的鎳膜具有催化性，可使反應繼續進行下去。關于ENP的具體反應機理，目前尚無統一認識，現為大多數人所接受的原子氫態理論是：

1、鍍液在加熱時，通過次亞磷酸根在水溶液中脫氫，而形成亞磷酸根，同時放出生態原子氫，即：

H2PO2- H2O→H2PO32- H 2[H]

2、初生態的原子氫吸附催化金屬表面而使之活化，使鍍液中的鎳離子還原，在催化金屬表面上沉積金屬鎳：

Ni2 2[H]→Nio 2H

3、隨著次亞磷酸根的分解，還原成磷：

H2PO2- [H]→H2O OH- Po

鎳原子和磷原子共同沉積而形成Ni-P合金，因此，ENP的基本原理也就是通過鍍液中離子還原，同時伴隨著次亞磷酸鹽的分解而產生磷原子進入鍍層，形成過飽和的Ni-P固溶體。

光亮鍍鎳液液的PH值應該控制在怎樣的范圍內為好?如何控制?

光亮鍍鎳的溶液呈弱酸性，陰極電流效率小于l00%，因此在電鍍過程中，陰極上除了鎳的沉積外，還有少量的氫氣析出，氫氣的析出影響到溶液的氫離子濃度，而pH值的控制范圍對鍍層質量是至關重要的一個參數。

在各種光亮鍍鎳的配方中，隨著主鹽含量的不同，相應鍍液的pH值控制范圍應當也不一樣。

其一般規律為：硫l酸鎳含量高時，pH值允許偏低;硫l酸鎳含量低時，pH值應偏高。pH值總的變化范圍應控制在3.8～5.5為宜，如果pH值過低，陰極電流效率降低，鍍層脆性大，甚至得不到鍍層，只有氫氣的析出;反之，pH值過高，溶液渾濁，沉積出來的鍍層發霧，有毛刺，有嚴重脆性。

化學鎳價格鍍液的維護

PH值——實踐結果表明，鍍鎳電解液的PH值對鍍層性能及電解液性能影響極大。在PH≤2的強酸性電鍍液中，沒有金屬鎳的沉積，只是析出輕氣 。一般PCB鍍鎳電解液的PH值維持在3—4之間 。PH值較高的鍍鎳液具有較高的分散力和較高的陰極電流效率。但是PH過高時，由于電鍍過程中陰極不斷地析出輕氣，使陰極表面附近鍍層的PH值升高較快，當大于6時，將會有輕氧化鎳膠體生成，造成氫氣泡滯留，使鍍層出現針洞。

鍍鎳溶液中常遇到的故障，如：麻點、脫皮、粗糙、發黑、發花、條紋和發脆等，除了少數是由于鍍液成分失調、操作條件超出工藝規范而引起的以外，往往與鍍液中的雜質有關。

怎樣系統處理鍍鎳液中的雜質?

在鍍鎳槽中，對雜質進行處理是保證鍍層質量的重要手段。在電鍍過程中，光亮劑的分解以及雜質的帶入幾乎是不可避免的，除要盡可能地保持溶液純凈，必須對鍍液進行定期的、系統的處理，不要等到故障出現，以致影響生產才進行雜質的去除處理。