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              真空鍍膜系統生產廠家在線咨詢「在線咨詢」

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              發布時間:2020-10-20 18:44  






              真空鍍膜技術的應用領域

              1.在裝飾品方面

              隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。

              2.在刀具、模具等金屬切削加工工具方面

              在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。

              (1)金黃色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是代應用廣泛的硬質層材料。

              (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。

              (3)鈷銅色的,是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

              3.在建筑玻璃和汽車玻璃上

              建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。

              普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射,普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外,但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。

              隨著經濟的發展,普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求,而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區降低室內溫度的要求;此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結構、粘結材料及粘接工藝,對抽速也有很大的影響。而低輻射膜則能滿足高緯度地區充分接受太陽輻射能量和1大限度阻止室內熱量外流的要求。

              在玻璃上,鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃,這種工藝在汽車玻璃上有很好的應用。

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              在平板顯示器中

              所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說,沒有薄膜技術,就沒有平板顯示器件。

              在太陽能利用方面

              當需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結構必須要合理,真空設備的材料生產都是在真空室內進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。

              理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。

              在防偽技術中

              防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

              在飛機防護涂層方面

              飛機的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產生“鎘脆”,甚至引起“空難”。

              1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

              在光學儀器中

              人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術,鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

              在信息存儲領域中

              薄膜材料作為信息記錄于存儲介質,有其得天獨厚的優勢:

              由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。

              為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。

              在傳感器方面

              在傳感器中,多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表面、界面的性質,需要盡量增大其面積,且能工業化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。

              在集成電路制造中

              晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。

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              真空鍍膜機的真空室設計方法

              真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術根據其采用方法的不同科分成蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

              真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結構必須要合理,真空設備的材料生產都是在真空室內進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。

              使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構,結構上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現隔離孔穴,真空系統上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內部的作用力下不產生形狀的變化,厚度需要足夠。

              焊接是真空室制造中的一道關鍵工序,保證焊接之后的真空室不會產生漏氣現象,須合理設計焊接結構,提高焊接質量,處在超高真空的內壁粗糙度要拋光使室外室內表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。


              真空鍍膜設備真空泵的選擇

              真空泵工作時產生的振動對工藝過程及環境有無影響。若工藝過程不允許,應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。

              了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆粒灰塵,有無腐蝕性等。選擇真空泵時,需要知道氣體成分,針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備,如冷凝器、除塵器等。

              真空泵在其工作壓強下,應能排走真空設備工藝過程中產生的全部氣體量。

              真空設備對油污染的要求。若設備嚴格要求無油時,應該選各種無油泵,如:水環泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達到清潔真空要求。


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