蕪湖實驗室凈化工程常用指南「多圖」

相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

現在我們國家的凈化工程已經在朝著節能的方向發展了，除了專業人士以外，其他人很少知道凈化工程的耗能量特別大，時候普通寫字樓的20倍，比美國更發達國家高出了15%。看到這些令人心驚的數字，我們國家的科學家們從節能的角度出發從根本上出出發，設計出能夠節省的相關設備。布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產品工序要求的用室外，還應配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互，凈化工程的面積應在保證基本要求前提下，與生產規模相適應。濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。

現在我們國家的凈化工程已經在朝著節能的方向發展了，除了人士以外，其他人很少知道凈化工程的耗能量特別大，時候普通寫字樓的20倍，比美國更發達國家高出了15%。看到這些令人心驚的數字，我們國家的科學家們從節能的角度出發從根本上出出發，設計出能夠節省的相關設備。而隨著凈化技術的發展，建設凈化車間的技術含量也越來越高，非人士不能也。除了在生產領域，凈化工程技術還會逐漸應用于家庭、公共場合，為人們提供更潔凈的生活空間10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術也在發展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。