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              NR9 3000P光刻膠公司貨源充足,北京賽米萊德有限公司

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              發布時間:2020-12-02 02:53  






              光刻膠的參數

              賽米萊德專業生產、銷售光刻膠,我們為您分析該產品的以下信息。

              分辨率

              分辨率英文名:resolution。區別硅片表面相鄰圖形特征的能力,一般用關鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。

              對比度

              對比度(Contrast)指光刻膠從曝光區到非曝光區過渡的陡度。對比度越好,形成圖形的側壁越陡峭,分辨率越好。

              敏感度

              敏感度(Sensitivity)光刻膠上產生一個良好的圖形所需一定波長光的能量值(或曝光量)。單位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光(DUV)、極深紫外光(EUV)等尤為重要。

              粘滯性黏度

              粘滯性/黏度(Viscosity)是衡量光刻膠流動特性的參數。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加;高的粘滯性會產生厚的光刻膠;越小的粘滯性,就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重(SG,Specific Gravity)是衡量光刻膠的密度的指標。它與光刻膠中的固體含量有關。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體,粘滯性更高、流動性更差。粘度的單位:泊(poise),光刻膠一般用厘泊(cps,厘泊為1%泊)來度量。百分泊即厘泊為粘滯率;運動粘滯率定義為:運動粘滯率=粘滯率/比重。 單位:百分斯托克斯(cs)=cps/SG。

              粘附性

              粘附性(Adherence)表征光刻膠粘著于襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導致硅片表面的圖形變形。光刻膠的粘附性必須經受住后續工藝(刻蝕、離子注入等)。

              抗蝕性

              抗蝕性(Anti-etching)光刻膠必須保持它的粘附性,在后續的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。

              表面張力

              液體中將表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力(Surface Tension),使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。



              光刻膠的生產步驟  

              1、準備基質:在涂布光阻劑之前,硅片一般要進行處理,需要經過脫水烘培蒸發掉硅片表面的水分,并涂上用來增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物以及硅二乙胺。

              2、涂布光阻劑(photo resist):將硅片放在一個平整的金屬托盤上,托盤內有小孔與真空管相連,硅片就被吸在托盤上,這樣硅片就可以與托盤一起旋轉。

              3、軟烘干:也稱前烘。在液態的光刻膠中,溶劑成分占65%-85%,甩膠之后雖然液態的光刻膠已經成為固態的薄膜,但仍有10%-30%的溶劑,容易玷污灰塵。通過在較高溫度下進行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發出來,從而降低了灰塵的玷污。

              4、曝光:曝光過程中,光刻膠中的感光劑發生光化學反應,從而使正膠的感光區、負膠的非感光區能夠溶解于顯影液中。正性光刻膠中的感光劑DQ發生光化學反應,變為乙烯酮,進一步水解為茚并羧酸,羧酸對堿性溶劑的溶解度比未感光的感光劑高出約100倍,同時還會促進酚醛樹脂的溶解。于是利用感光與未感光的光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度,就可以進行掩膜圖形的轉移。

              5、顯影(development) :經顯影,正膠的感光區、負膠的非感光區溶解于顯影液中,曝光后在光刻膠層中的潛在圖形,顯影后便顯現出來,在光刻膠上形成三位圖形。為了提高分辨率,幾乎每一種光刻膠都有專門的顯影液,以保證高質量的顯影效果。

              6、硬烘干:也稱堅膜。顯影后,硅片還要經過一個高溫處理過程,主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強光刻膠對硅片表面的附著力,同時提高光刻膠在刻蝕和離子注入過程中的抗蝕性和保護能力。

              7、刻(腐)蝕或離子注入

              8、去膠:刻蝕或離子注入之后,已經不再需要光刻膠作保護層,可以將其除去,稱為去膠,分為濕法去膠和干法去膠,其中濕法去膠又分去膠和無機溶劑去膠。

              以上內容由賽米萊德為您提供,希望對同行業的朋友有所幫助!


              何為光刻膠

              光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種具有光化學敏感性的功能性化學材料,由光引發劑、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。

              它被稱為是電子化工材料中技術壁壘較高的材料之一,主要利用光化學反應將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作,下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細加工,同時在 LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應用。

              按照下游應用,光刻膠可分為半導體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB(印刷線路板)用光刻膠等,其技術壁壘依次降低。

              期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!!



              光刻膠市場情況  

              目前全球光刻膠市場基本被日本和美國企業所壟斷。光刻膠屬于高技術壁壘材料,生產工藝復雜,純度要求高,需要長期的技術積累。日本的JSR、東京應化、信越化學及富士電子四家企業占據了全球70%以上的市場份額,處于市場壟斷地位。

              光刻膠市場需求逐年增加,2018年全球半導體光刻膠銷售額12.97億美元。隨著下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求擴大,未來光刻膠市場將持續擴大。

              以上就是為大家介紹的全部內容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們



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