廣州電路板鍍膜加工公司服務(wù)為先 東莞拉奇納米鍍膜

鍍膜加工的優(yōu)點(diǎn)

簡(jiǎn)單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導(dǎo)電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進(jìn)外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經(jīng)過真空鍍膜技術(shù)，硬度及耐磨性大大添加。

能夠提高耐候性，通常塑料在室外會(huì)老化的非常快，首要原因是紫外線照耀所致，而鍍鋁后，鋁對(duì)紫外線反射強(qiáng)，所以耐候性大大提高。

削減吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，孔愈少，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

真空鍍膜應(yīng)用，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

物理氣相沉積：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或?yàn)R射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。

納米鍍膜產(chǎn)品已為大眾所熟知，并廣泛應(yīng)用在手機(jī)鍍膜領(lǐng)域上，其實(shí)針對(duì)納米鍍膜產(chǎn)品的功能特性，它所能適用的范圍領(lǐng)域是很廣泛的。