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              ZF450多源蒸發鍍膜機報價服務放心可靠

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              發布時間:2020-10-06 12:59  






              OLED有機無機聯合蒸發系統介紹

              以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產電阻熱蒸發鍍膜產品,歡迎新老客戶蒞臨。

              OLED有機無機聯合蒸發系統的用途 :

              適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作。如果加熱速度慢,相當于樣品在一系列溫度下漸次分解,使分解過程復雜化(包括許多副反應),譜圖的特征性和重復性就差。與手套箱聯合系統的用戶群體為科研院所及實驗室,將真空蒸發系統工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環境中,PVD與Glove box硬件無縫對接,操控融合一體,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域



              鈣鈦礦鍍膜設備

              以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享電阻熱蒸發鍍膜產品的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!

              設備用途 :

              適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作。廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域

              設備組成:

              該設備主要由沉積室、真空排氣系統、真空測量、蒸發源、樣品加熱、電控系統、等部分組成。

                    1、鍍膜室:方形前后開門結構,內帶有防污板。

                    2、真空度:鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa;

                    3、蒸發源系統:有機源蒸發源4個,無機蒸發源2套

                    4、樣品架系統:樣品大小為Φ150mm的樣品,旋轉速度為:0~30轉/分;

                    5、樣品在鍍膜過程中,可烘烤加熱,加熱溫度為:室溫~190℃,測溫控溫。

                    6、膜厚控制儀:測量范圍0-999999?



              鈣鈦礦鍍膜機介紹

              主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。ParyleneN粉是各類Parylene中具有較強的滲透能力,能夠有效地在各種細縫或盲孔表面形成薄膜。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方,蒸發源位于真空室下方,向上蒸發鍍膜,且蒸發源帶有擋板裝置,防止蒸發源被污染。

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首,服務至上為宗旨。公司生產、銷售電阻熱蒸發鍍膜產品,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



              有機熱蒸發鍍膜機介紹

              技術指標:

              1. 真空室的極限真空度達5*10-5pa,漏率為關機12小時≤5pa

              2. 真空腔內配有集約樣品臺一套,配有大擋板和16套小擋板,手動控制,開關方便快捷,每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片

              3. 蒸發源共14套,其中10套有機蒸發源,4套金屬蒸發源。控溫精度±1℃,可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩定的功能

              4. 金屬蒸發源配4臺一帶一1000W可控硅調壓電源,通過銅電極連接,兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟,鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料,鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料,蒸發源采用陶瓷全密封,避免交叉污染

              5. 有機蒸發源配10臺一帶一溫控電源,有機源溫度為室溫-500度,可以根據材料及用戶需求自行調節

              6. 樣品臺具有旋轉、升降功能,可在線更換掩膜板一次,可同時裝載30mm*30mm樣品16塊。本產品每兩個樣品都配有小擋板,并且通過PLC控制步進電機對每個小擋板做16個定位,使機械手推拉小擋板,樣品與蒸發源之間的間距為200-300mm

              以上內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,希望對同行業的朋友有所幫助!



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