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發布時間:2021-03-28 05:04  






等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應,分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內,因此等離子納米化學活化工件表面,等離子電漿拋光,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學物質.

等離子拋光是工件與拋光液中通電脫離的金屬離子吸附在工件表面,電漿拋光,工件凸起處電流沖擊高而去除快,電流流動,凹凸不斷變化,粗糙表面逐漸被整平。
等離子拋光技術,電漿拋光廠,其材料去除速度為1μm/min,是液態電打磨的10-30倍。全自動化拋光(一般為1-5分鐘/件)。從鑄造到加工的全流程生產中,搭配超級等離子系列,一名技工(出口標準)可處理約20個/天,大大縮短產品生產周期(注:下表3、4列單位改為個/天、元/個)
除此之外,根據拋光工件數量,產品多個規格可選,可批量處理(3-9個支架/次),大大提升了生產效率。
等離子拋光也稱電漿拋光。主要用于五金件產品的拋光以及真空鍍膜的前處理,在表面處理行業屬于新的工藝,本文將在等離子拋光的工作原理、應用優勢以及在表面處理行業的應用來說明它與真空鍍膜的協調性。
等離子拋光的工作原理
等離子也稱為物質的第四態,是一種電磁氣態放電現象,使氣態粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下,拋光劑水溶,電子會脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個帶正電的離子,電漿拋光廠家,當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態,等離子態能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。


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