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電子束鍍膜屬于蒸鍍還是濺射？

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1.蒸發鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。

2.蒸發鍍主要包括：電阻加熱蒸發、感應加熱蒸發、電子束蒸發、激光加熱蒸發、離子束蒸鍍等。

3.您所說的E型鍍膜和直型電子鍍膜都是屬于熱蒸發鍍膜的范疇。

4.S濺射實際就是錐形磁控濺射靶，激光分子束外延設備，陰極靶材為環狀錐形，安裝在水冷座上。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。

電子束蒸發鍍膜機的用途

電子束蒸發沉積鍍膜設備，激光分子束外延設備公司，具有有機材料沉積和金屬材料沉積成膜功能。它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件。可用于鍍半導體、金屬膜，氧化物、納米級單層及多層功能膜的連續沉積.

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電子束蒸鍍系統的特點

* 渦輪分子泵，激光分子束外延設備多少錢，串接機械泵或干泵

* pocket電子

* 電子束源和基片遮板

* 性能好的開關電源，杰出的消弧性能

* 自動Pocket索引以及可編程的掃描控制器

* 膜厚監測，可設置目標膜厚作為工藝終點條件

* 旋轉樣品臺，提供高均勻性

* 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片

* PC全自動控制，具有高度的可重復性

* Labview軟件的計算機全自動工藝控制控

* 多級密碼保護的授權訪問設計

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