測厚儀廠家按需定制「多圖」

一六 熒光測厚儀 十年以上研發團隊 集研發生產銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

xiao測量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀測量原理與儀器

一． 磁吸力測量原理鍍層厚度分析儀

磁鐵（測頭）與導磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關系，這個距離就是覆層的厚度。利用這一原理制成測厚儀，只要覆層與基材的導磁率之差足夠大，就可進行測量。鑒于大多數工業品采用結構鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型，所以磁性測厚儀應用廣。測厚儀基本結構由磁鋼，接力簧，標尺及自停機構組成。磁鋼與被測物吸合后，將測量簧在其后逐漸拉長，拉力逐漸增大。當拉力剛好大于吸力，磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。新型的產品可以自動完成這一記錄過程。不同的型號有不同的量程與適用場合。這種儀器的特點是操作簡便、堅固耐用、不用電源，測量前無須校準，價格也較低，很適合車間做現場質量控制。數據報告：對測量的數據結果進行對比和分析，判斷數據是否正常，若出現異常可進行多次測量排除偶然誤差14。

二． 磁感應測量原理鍍層厚度分析儀

采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品采用指針式表頭，測量感應電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。近年來的電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術，利用磁阻來調制測量信號。還采用專利設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個數量級）。現代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1%，量程達10mm。無損變焦檢測:可對各種異形凹槽進行無損檢測，凹槽深度范圍0-90mm。磁性原理測厚儀可應用來測量鋼鐵表面的油漆層，瓷、搪瓷防護層，塑料、橡膠覆層，包括鎳鉻在內的各種有色金屬電鍍層，以及化工石油待業的各種防腐涂層。

三． 電渦流測量原理鍍層厚度分析儀

高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場，測頭靠近導體時，就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個反饋作用量表征了測頭與導電基體之間距離的大小，也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由于這類測頭專門測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測頭。非磁性測頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應原理比較，主要區別是測頭不同，信號的頻率不同，信號的大小、標度關系不同。與磁感應測厚儀一樣，渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。古董的檢測X熒光儀器在古董的檢測鑒定上也起著重要的作用，通過儀器檢測對產品進行定性分析可得其元素成分，從而對產品的年限進行一個判斷，得出結論。

采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽極氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適。科學儀器在我國科技發展中起到的重要作用是不容忽視的，希望未來能夠看到更多拔萃的科學儀器為我國科技發展做出貢獻。

一六儀器 專業測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題

定位方式：

    1、移動平臺：

       A、手動（普通和帶精密滑軌移動）：裝配設計不同精準移位從0.5mm-0.005mm不等，移動的靈動性差距也很大。

       B、電動（自動）：裝配設計不同精準移位從0.2mm-0.002mm不等

但同樣的手動或者自動，其定位精準也相差很多。

     2、高度定位：

         A、手動變焦和無變焦

         B、激光對焦和CCD識別對焦

江蘇一六儀器    我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名專家通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩定的多道脈沖分析采集系統、先進的解譜方法和EFP算法結合精準定位及變焦結構設計，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題。打開儀器高壓鑰匙，觀察軟件界面管流值不為0值且正常上升至1000左右5。

-樣品觀察系統高分辨、彩色、實時CCD觀察系統，標準放大倍數為30倍。50倍和100倍觀察系統任選。激光輔助光自動對焦功能可變焦距控制功能和固定焦距控制功能

7計算機系統配置IBM計算機:1.6G奔騰IV處理器，256M內存，1.44M軟驅，40G硬盤，CD-ROM，鼠標，鍵盤，17寸彩顯，56K調制解調器。惠普或愛普生彩色噴墨打印機。

8分析應用軟件操作系統:Windows2000中文平臺中文分析軟件包:SmartlinkFP軟件包

     江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發、生產、銷售的高新技術企業。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區。我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名專家通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀

     X射線熒光光譜測厚儀原理

    一個內層電子而出現一個空穴，使整個原子體系處于不穩定的激發態，激發態原子壽命約為 (10)-12-(10)-14s，然后自發地由能量高的狀態躍遷到能量低的狀態。這個過程稱為馳豫過程。馳豫過程既可以是非輻射躍遷，也可以是輻射躍遷。當較外層的電子躍遷到空穴時，所釋放的能量隨即在原子內部被吸收而逐出較外層的另一個次級光電子，此稱為俄歇效應，亦稱次級光電效應或無輻射效應，所逐出的次級光電子稱為俄歇電子。X射線熒光光譜儀特點1、一種真正意義上的無損分析，在分過程中不會改變樣品的化學形態。

     它的能量是特征的，與入射輻射的能量無關。當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不在原子內被吸收，而是以輻射形式放出，便產生X射線熒光，其能量等于兩能級之間的能量差。因此，X射線熒光的能量或波長是特征性的，與元素有一一對應的關系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中 任一電子所填充，從而可產生一系列的譜線，稱為K系譜線:由L層躍遷到K層輻射的X射線叫Kα射線,由M層躍遷到K層輻射的X射線叫Kβ射線……。通過加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內層電子撞出。