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發(fā)布時間:2021-10-15 17:27  





雙靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時設備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質量和牢固度。
設備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(2個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。
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雙室磁控濺射系統(tǒng)
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設備簡介
主要特點是設備體積小,結構簡單緊湊易于操作,對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內優(yōu)的配置,從而提高設備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇,可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置,比較靈活;磁控濺射介紹以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享磁控濺射產(chǎn)品的相關內容,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。標配4只Φ2英寸永磁靶,4臺500W直流濺射電源,主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
磁控濺射設備的主要用途
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(1)各種功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低溫沉積氮化硅減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。
(2)裝飾領域的應用,如各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼,鼠標等。
(3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機
(4)化學氣相沉積(CVD)生長困難及不適用的材料薄膜沉積,而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
(5) 在光學領域:中頻閉合場非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是透明導電玻璃廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。
(6)在機械加工行業(yè)中,表面功能膜、超硬膜,自潤滑薄膜的表面沉積技術自問世以來得到長足發(fā)展,能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩(wěn)定性能,從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。
磁控濺射除上述已被大量應用的領域,還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。
自動磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點?
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
自動磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
不銹鋼腔體
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下的載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片