天津離子氮化爐電話

湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業；是集研發、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

輝光離子滲氮的特點有：可節約能源和氨的消耗量，電能消耗為氣體氮化的1/2～1/5，氨氣消耗為氣體氮化的1/5～1/20。Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當所用工作電壓頻率高到半個周期內可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被1捕獲時，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個周期放電，使所需放電場強明顯降低，有利于產生均勻的APGD。易于實現局部氮化，只要設法使不欲氮化的部分不產生輝光即可1，非滲氮部位便于保護，采用機械屏蔽、用鐵板隔斷輝光，即可保護。

射頻磁控濺射氣體放電時，由于射頻靶電源輸出交變高頻正弦電壓波形，致使電子碰撞工作氣體的幾率大為增多，工作氣體離化率高，等離子阻抗低，射頻磁控濺射膜層沉積速率為二極射頻濺射的數倍。輝光放電的特征是電流強度較小（約幾毫安），溫度不高，故電管內有特殊的亮區和暗區，呈現瑰麗的發光現象。兩種靶電源不同之處：選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源，因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續調節，鍍膜時電源的工藝參數適應范圍比“經濟型”中頻靶電源要寬很多。 。

法國的Massines小組、加拿大的Radu小組和俄羅斯的Golubovskii小組對APGD的形成機理也進行了比較深入的研究工作。Massines小組對氦氣和氮氣的APGD進行了實驗研究和數值模擬 ，除了測量外加電壓和放電電流之外，他們用曝光時間僅10ns的ICCD相機拍攝了時間分辨的放電圖像，用時空分辨的光譜測量記錄了放電等離子體的發射光譜，并結合放電過程的一維數值模擬，他們認為，氮氣中的均勻放電仍屬于湯森放電，而氦氣中均勻放電才是真正意義上的輝光放電，或亞輝光放電。其特點是，隨著調節電源輸出的磁控靶工作電壓的增加，濺射電流也應同步緩慢上升。他們還認為，得到大氣壓下均勻放電的關鍵是在較低電場下緩慢發展大量的電子雪崩。