衢州真空鍍膜機廠家歡迎來電 至成鍍膜設備

卷繞式真空鍍膜機工作原理

現在的真空鍍膜機做得非常專業性了，有針對車燈產品研發的，有針對工模具硬質膜研發的，等等，現在還有一種是針對塑料膜研發的，卷繞式真空鍍膜機。大家也知道，像包裝紙，塑料袋這些產品，要在其上面鍍膜，還要保證膜層的均勻性，又不會使包裝約塑料袋等產生皺折，于是就研發出了卷繞式真空鍍膜機，它通過把產品固定并通過卷繞的方法，在產品上鍍膜，鍍出來的膜層只有0.01到0.2μm的厚度而已。商標印刷機在真空鍍膜機的真空室中分為上下兩個部分，而下面的又分為左右兩個部分，在下面的左右兩邊底下都放置著一個蒸發源，在蒸發源上放這靶材材料，當啟動蒸發源后通過電阻加熱把靶材蒸發上升到產品上沉積成膜，另外在產品不成膜的另一邊放置輝光放電發生器，產生放電氣體，使產品不會產生皺折。對于那些容易皺折的產品的鍍膜，卷繞式真空鍍膜機確實是一種非常好的設計。

卷繞式真空鍍膜機具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點。卷繞系統采用直流或交流變頻調速，具有運行平穩、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點；張力控制采用進口數字張力控制系統，具有張力、線速度恒定，運作快速的特點；強勁的抽真空系統，配備節能維持泵。

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供的小規格、簡便型光學鍍膜系統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現在，系統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

金屬帶鍍膜設備

HCMRC系列采用模塊化設計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產工具。通過我們各種技術的獨特組合，可以生產高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設備采用公司新開發的磁控濺射鍍膜技術、陰極電弧離子鍍膜技術及獨特設計的離子源輔助沉積鍍膜技術等多種技術組合，成功應用在大卷徑寬幅高真空連續卷繞鍍膜設備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應用范圍。

模塊化設計概念，帶材糾偏系統、等離子體預處理、磁控濺射系統、在線測量和工藝控制系統、電子束蒸發靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續鍍膜生產線的良好選擇。

pvd裝飾鍍膜有哪些優點?

pvd裝飾鍍膜有哪些優點？ PVD鍍膜(離子鍍膜)技術的主要特點和優勢—和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優點： A.膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件0v R0S4C.膜層沉積速率快，生產D.可鍍膜層種類廣泛E.膜層性能穩定、安全性高(獲得FDA認證). 鍍膜設備鍍出的產品掉膜是怎么回事?一、產品表面潔凈度不夠，離子源清洗氣放大時間長點。二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。三、工藝參數是否有變動在膜厚和電流上可以做點調整。