石家莊六氟化硫用途廠家供應「多圖」

化學性質

六氟化硫是一種無色、無臭、無毒、不燃的惰性氣體，它的分子量為146.07，在20℃和0.1 MPa時密度為6.1kg/m3，約為空氣密度的5倍。

化學性質穩定。微溶于水、醇及醚，可溶于氫yang化鉀。不與氫氧hua鈉、液氨及鹽酸起化學的反應。300℃以下干燥環境中與銅、銀、鐵、鋁不反應。500℃以下對石英不起作用。250℃時與金屬Na反應，-64℃時在液氨中反應。4、六氟化硫產品不純，出廠時含高毒性的低氟化硫、氟化氫等有毒氣體。與硫化氫混合加熱則分解。200℃時，在特定的金屬如鋼及硅鋼存在下，能促使其緩慢分解。

1、主要用于高壓開關中滅弧，在大容量變壓器和高壓電纜中作為絕緣材料使用。可在核粒子jia速器及避雷器X射線設備中作為氣體的絕緣材料，利用SF6化學穩定性好，對設備不腐蝕，在冷凍工業中可作為冷凍劑（操作溫度在－45～0℃之間），SF6對α-粒子有高度的停止能力，故在放i射化學中也有應用；也可作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。在超高壓和特高壓斷路器中，SF6作為滅弧介質，已取代油，并已大量取代了壓縮空氣。

2、用作電子設備和雷達波導的氣體絕緣體。

高純六氟化硫的應用

 六氟化硫的使用可以增加設備運行的安全性、縮小設備體積、延長設備壽命。近幾年，國家大力發展基礎電力行業，給六氟化硫廠家帶來了很大的市場機遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國內需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導體工業中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。

 該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時，還顯示出了極i佳的環保前景，近年來用量有明顯的提高。

 據權i威機構預測，2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場，總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右，

 國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條，在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。目前采用第二種試驗方法較為準確，其實施程序是：抽真空檢驗→SF6氣體→六氟化硫氣體泄漏檢驗。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求，半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口，這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。

六氟化硫氣體泄漏檢測技術

 SF6氣體泄漏檢測主要采用了電化學技術、電i擊穿技術和紅外光譜吸收技術。

 1、電化學技術：電化學技術的原理是被檢測氣體接觸到200°C左右高溫的催化劑表面，并與之發生相應的化學反應，從而產生電信號的改變，以此來發現被檢測氣體。

 2、電i擊穿技術：電i擊穿技術是從SF6氣體在電力上的典型應用——作為絕緣氣體應用在GIS開關柜中演變而來的。其工作原理是根據SF6氣體絕緣的特性，從置于被檢測空氣中的高壓電極間電壓的變化來判斷空氣中是否含有SF6氣體。

 3、紅外光譜吸收技術：紅外光譜吸收技術(又稱激光技術）的原理是SF6作為溫室氣體，對特定波段的紅外光有很強烈的吸收特性。