磁控多弧復合鍍膜機免費咨詢

連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套設(shè)備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套鍍膜設(shè)備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

優(yōu)勢：設(shè)備模組化設(shè)計，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。