紹興全自動鍍膜機公司 至成鍍膜機訂制

真空鍍膜機原理和各部件分析

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。至成真空科技專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。

真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用多的有直徑1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔體由不銹鋼"target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

二、輔助抽氣系統：排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空狀態，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯，以這樣的方式完成抽氣動作。

真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力

真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力主要與以下因素有關：

1、真空鍍膜設備底鍍層的種類與性質。一般認為，銅層與多種金屬都具有好的結合力。含鐵量高達30％左右的高鐵鎳鐵合金，在酸銅液中也會產生置換銅層，故不能用于光亮酸銅打底。

2、真空鍍膜機底鍍層的光亮性。真空鍍膜鍍層越是光亮，與其他鍍層的附著力可能越差。

3、真空鍍膜設備底鍍層表面的清潔性。典型的是鍍硫酸鹽光亮酸銅后，往往形成有機膜鈍化層，應作脫膜處理。不要輕信聲稱鍍后無需除膜的酸銅光亮劑的宣傳，而在工藝流程設計時不考慮除膜工序。

因為即使新配液時可以不脫膜，隨著亮銅液中有機雜質的積累或加入的光亮劑比例失調時，也會產生憎水的有機膜層。眾所周知，聚乙二醇幾乎是所有酸銅光亮劑中不可缺少的組分，而鍍層中聚乙二醇的夾附量越大，越容易生成憎水膜層。

4、真空鍍膜機底鍍層的鈍化性。越易鈍化的鍍層，其上鍍層的結合力越差。鎳是易鈍化金屬，鍍鎳過程中斷電對間稍長，鎳鍍層在鍍鎳液中會發生化學鈍化；

若未能有效避免雙性電極現象(詳見第四講)；則作為陽極部分的工件局部更會發生嚴重的電化學鈍化，在鍍多縣鎳時特別應注意。鉻比鎳更易鈍化，所以鉻上鍍鉻必須有良好的活化。

鉻上鍍鉻的情況也不少，如：裝飾性套鉻一次深鍍能力差時作二次套鉻；為兼顧抗蝕性與耐磨性，在乳白鉻(基本無裂紋)上鍍硬鉻；鉬及鉬合金電鍍要求用鍍鉻打底等。

真空鍍膜設備選購要點分析

真空鍍膜設備選購要點分析如下：

1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

2、根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

3、夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉 自轉方式，用戶可根據基片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。

4、真空系統由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

5、根據工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等），真空測量可選擇數字式智能真空計及其的測量規管，及其它測量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。

6、充氣方式可選用質量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應流量參數。

7、根據需烘烤的結構提出烘烤溫度、材質以及所需配備相應儀表測量。

8、根據設備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。

9、完善的報警系統，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。