泰州光罩信賴推薦「蘇州制版」

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區域，使該區域的光刻膠（通常為正膠）發生光化學反應

經過顯影、定影后，曝光區域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層

制版（platemaking）是將原稿成印版的統稱。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現澆鑄成凸版和將圖像經照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。光刻掩膜版材質可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。

光刻工藝

是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結構，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術.

光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。光刻掩膜版（又稱光罩，英文為MaskReticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。

按石英含量可分為兩類：①長石石英巖，石英含量大于75%，常含長石及云母等礦物，長石含量一般少于20%。如長石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長石、磁鐵礦等礦物。