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真空鍍膜技術優點

清洗過程簡化：現有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果良好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

可鍍材料廣泛：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

真空鍍膜機鍍鋁時,應該注意哪些事項

用真空鍍膜設備鍍鋁膜，基本工藝流程為：預真空─離子清洗─鍍鋁─離子轟擊─鍍保護膜─放氣。預真空對鍍膜室抽真空至5×10，2Pa時，充入Ar氣430mL，利用2個適當的電極間的低壓輝光放電產生的離子轟擊達到清洗和輔助預熱鍍膜基底的作用，轟擊時間為150s;鍍鋁部分蒸發器快速升至高溫，鋁絲從預熱、熔化、蒸發鍍鋁到鍍鋁完成的時間為30s多;采用二次離子轟擊，去除膜表面粒狀顆粒，使膜層更加致密，轟擊時間為80s;鍍保護膜時間為(200±50)s，真空度為3×10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar氣來控制真空度，硅油流量由調節閥控制，直至放氣結束。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內臟、靶玻璃材濺射產生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質，每單位表面積上的分子數大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數大體上相當于覆蓋物質積的分子數。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發條件下基本相同。

現代真空鍍膜機膜厚測量及監控方法

現代真空鍍膜機膜厚測量及監控方法 涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅動的蒸發源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發率。只要儀器和系統控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監測代替光學厚度的涂層質量。 此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區域，導致薄膜的重大錯誤。光學監測是一種涂層優選的監控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。