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平面研磨機受到越來越多青睞的五個理由

近的研磨行業發展勢頭迅猛，無論是加工企業還是生產平面研磨設備的企業，也相繼出市。在這里設備中，平面研磨機作為經典設備，受到了越來越多的青睞。之所以有這個勢頭，原因有五：

1.需求大：

在平面工件、球形工件及異形工件中，平面工件相比來說，其數量則打得到，因此，用以加工平面工件的平面研磨機的需要同樣大得多。大量的需求拉動了整個研磨行業的發展。

2.加工易：

平面工件的加工，相比起其他研磨設備結構相對簡單，加工起來相對更容易。制作加工平面工件的平面研磨設備自然就多了。

3.產品及技術發展成熟。

工作原理是被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉動，修正輪帶動工件自轉，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉磨擦，來達到研磨拋光目的。

4.技術先進。

據上所述，平面研磨設備發展較早，因而其技術也相對更成熟。再加上包括方達在內的研磨企業不斷開發新產品新工藝，其藍寶石研磨機技術已經達到了國內先進水平，鏡面拋光機技術已經接近國際水平。

5.人才多。

這個行業里人才多，拿目前業內傳出iPhone 6的顯示屏采用藍寶石后，很快某些公司便研發出了新的系列藍寶石研磨機產品，據說也一半的成本價代替了過去進口的產品。

有了以上的五個理由做保障，平面研磨機的發展也自然蒸蒸日上，其經典產品自然也能越發受到青睞

平面研磨機對工件進行研磨拋光加工的步驟

1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(見切削加工)、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達R 0.63～0.01微米。另一方面，如果敷料應用過于頻繁，修整金剛石磨損和研磨盤磨損將造成巨大的成本。

2、研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研 3類。

①濕研：又稱敷砂研磨，把液態研磨劑連續加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。

②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。

③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度細于W7。

④半干研：類似濕研，所用的研磨液是糊狀研磨膏。研磨既可用手工操作，也可在平面研磨機上進行。工件在研磨前須先用其它加工方法獲得較高的預加工精度，所留研磨余量一般為5～30微米。

3、研具是使工件研磨成形的工具，同時又是研磨液的載體，硬度應低于工件的硬度，又有一定的耐磨性，常用灰鑄鐵制成。濕研研具的金相組織以鐵素體為主；干研研具則以均勻細小的珠光體為基體。研磨M5以下的螺紋和形狀復雜的小型工件時，常用軟鋼研具。研磨小孔和軟金屬材料時，大多采用黃銅、紫銅研具。研具應有足夠的剛度，其工作表面要有較高的幾何精度。系列研磨機采用PLC程控系統，變頻調速，觸摸屏操作面板，電機轉速與運行時間可直接在觸摸屏上輸入。研具在研磨過程中也受到切削和磨損，如操作得當，它的精度也可得到提高，使工件的加工精度能高于研具的原始精度。

4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：

①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；

②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；

③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩；

④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現周期性重復。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過 0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

5、互相配合的工件常采用配研方法。配研前，兩工件先需要經過單件研磨，然后在兩工件配合表面間加入研磨液，兩工件互為研具，通過配研消除阻礙精密配合的微觀峰部，使配合表面相互吻合。