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磁控濺射鍍膜機

銦錫氧化物( Indium Tin Oxide ,簡稱ITO) 薄膜是一種用途廣泛的透明導電材料,已成熟的應用于電機車擋風玻璃、液晶顯示器件、太陽能電池、全息照相和液晶彩色電視等,蓄勢待發的應用領域為有機發光二極管顯示器(Organic Light-Emitting Diode ,簡稱OLED) 。也就是說,采用合金靶磁控濺射時,工藝參數的窗口很窄且極不穩定。從應用角度出發,通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ,薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制備方法很多,如噴涂、蒸發、射頻濺射和磁控濺射等。隨著液晶顯示器技術向高精細化和大型化發展,磁控濺射法備受歡迎。

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磁控濺射鍍膜機技術原理

真空磁控濺射鍍膜技術是通過真空磁控濺射鍍膜機實現的，鍍膜機內由不同級別的真空泵抽氣，在系統內營造出一個鍍膜所需的真空環境，真空度要達到鍍膜所需的本底真空，一般在（1~5）×10-8 Pa。在真空環境中向靶材（陰極）下充入工藝氣體氣（Ar），氣在外加電場（由直流或交流電源產生）作用下發生電離生成離子（Ar ），同時在電場E的作用下，離子加速飛向陰極靶并以高能量轟擊靶表面，使靶材產生濺射。濺射鍍膜技術濺射鍍膜濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。在濺射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉積在PET基片上形成薄膜。同時被濺射出的二次電子在陰極暗區被加速，在飛向基片的過程中，落入設定的正交電磁場的電子阱中，直接被磁場的洛倫茲力束縛，使其在磁場B的洛倫茲力作用下，以旋輪線和螺旋線的復合形式在靶表面附近作回旋運動。電子e的運動被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子區域內，使其到達陽極前的行程大大增長，大大增加碰撞電離幾率，使得該區域內氣體原子的離化率增加，轟擊靶材的高能Ar 離子增多，從而實現了磁控濺射高速沉積的特點。在運用該機理開發磁控膜的過程中，要注意以下幾個問題：①保證整體工藝中各個環節的可靠性。具體包括靶材質量、工藝氣體純度、原膜潔凈程度、原膜質量等基礎因素，這一系列因素會對鍍膜產品的終質量產生影響。②選擇合適的靶材。要建立的膜系是通過對陰極的前后順序布置實現的。③控制好各環節的工藝性能及參數。如適合的本底真空度、靶材適用的濺射功率、工藝氣體和反應氣體用量與輸入均勻性、膜層厚度等。總之，只有控制好以上各因素，才能夠保證所開發的鍍膜PET具有穩定的顏色、優異的性能和耐久性。

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淺析磁控濺射鍍膜儀鍍膜優勢

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我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異，這處理根據鍍膜的方式不同之外，還跟所鍍的材料有關系，這種差別我們很難看出來，因為根據目前的鍍膜行業中的一些gao端設備，比如說磁控濺射鍍膜儀，都是屬于比較精細的一種鍍膜機械。

那么在現今的發達科技中，磁控濺射鍍膜儀鍍膜有哪些優勢呢？下面小編來深入的分析一下：

磁控濺射鍍膜設備所鍍的膜穩定性好，這是因為其膜不僅厚，而且所生成的時候非常穩定，另外還根據濺射電流來控制。我們知道電流越大，這種設備的濺射率也就相對的變大，這也是磁控濺射鍍膜設備非常穩定的一個因素。

另外采用磁控濺射鍍膜設備來生成膜層，不管鍍多少次膜，他所鍍出來的膜厚度基本上是一樣的，而且非常穩定。

從上述淺析中，我們不難發現磁控濺射鍍膜設備的優勢，其實就是在于穩定，這也是目前一些精細產品鍍膜選擇這種設備的原因。

濺射原理

以下是創世威納為您一起分享的內容，創世威納專業生產磁控濺射鍍膜設備機，歡迎新老客戶蒞臨。

1.1 濺射定義

就像往平靜的湖水里投入石子會濺起水花一樣，用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子（或分子）從固體表面逸出，這種現象稱為濺射現象。

1.2 濺射的基本原理

濺射是指具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面使其中的原子發射出來。早期人們認為這一現象源于靶材的局部加熱。但是不久人們發現濺射與蒸發有本質區別，并逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。