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鍍膜機廠家介紹光學監控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監控方法較多，目前較新的方法是光學監控法，其相對于的傳統的石英晶體微量平衡法來說，光學監控法更具有準確性，因為傳統的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監控法的特點。

光學監控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，光學監控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。能夠更準確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監控相比傳統的監控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監測方法。

真空電鍍機灰塵處理方式

真空電鍍機應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。但是真空電鍍機在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果，那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

我國真空鍍膜設備現狀分析

1.設備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2.設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題。

3.真空鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。

4.真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。

5.真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。

6.工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機（真空電鍍機系列）

由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空電鍍機中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

真空電鍍機行業發展優勢

真空電鍍機對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯系的。周圍環境的好壞直接影響真空設備的正常使用;而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周知，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。口巨業環境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態的物質。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數的微小物質。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態存在于氣體中的物質體系。物質無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態均可統稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的口巨業部門，也適合于真空對潔凈環境的要求。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

現在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

直流濺射發展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質區別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。