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              發(fā)布時(shí)間:2020-08-18 07:10  






              佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車(chē)輛燈具注塑 鍍膜為主的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠家,公司秉承“以質(zhì)取勝,求真務(wù)實(shí),顧客至上”理念,歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

              真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 :

              電子的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng),而且被電磁場(chǎng)束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),在該區(qū)中電離出大量的離子用來(lái)轟擊靶材,從而實(shí)現(xiàn)了磁控濺射沉積速率高的特點(diǎn)。隨著碰撞次數(shù)的增加,電子的能量逐漸降低,同時(shí)逐步遠(yuǎn)離靶面。離子鍍:離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發(fā)離子化,并在這些荷能離子轟擊基體(工件)表面并同時(shí)沉積在其上形成鍍膜。低能電子沿著磁力線來(lái)回振蕩,待電子能量將耗盡時(shí),在電場(chǎng)的作用下終沉積在基片上。由于該電子的能量很低,傳給基片的能量很小,致使基片溫升較低。由于磁極軸線處電場(chǎng)與磁場(chǎng)平行,電子將直接飛向基片。但是在磁控濺射裝置中, 磁極軸線處離子密度很低, 所以這類(lèi)電子很小,對(duì)基片溫升作用不大。

              真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

                 1、使塑料表面有導(dǎo)電性;

                 2、容易清洗,不吸塵。

                 3、改善美觀,表面光滑,金屬光澤彩色化,裝飾性大大提高;

                 4、減少吸水率,鍍膜次數(shù)愈多,愈少,吸水率降低,制品不易變形,提高耐熱性。

              電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為:①電子束轟擊熱源的束流密度高,能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度。很多標(biāo)榜無(wú)機(jī)類(lèi)鍍膜的產(chǎn)品,其實(shí)本身并不是真正的無(wú)機(jī)物,夸大其詞的宣傳往往給消費(fèi)者造成信息誤導(dǎo)。可以使高熔點(diǎn)(可高達(dá)3000°C以上)材料蒸發(fā),并且能有較高的蒸發(fā)速度;②由于被蒸發(fā)材料是置于水冷堆鍋內(nèi),因而可避免容器材料的蒸發(fā),以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng),這對(duì)提高鍍膜的純度極為重要;③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面,因而熱,熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。


              離子鍍是真空鍍膜工藝”的一項(xiàng)新發(fā)展。離子鍍密度大,無(wú)氣孔但膜層缺陷較多,附著性很好,內(nèi)應(yīng)力視工藝條件而定,繞射性較好。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時(shí),工件夾在真空罩內(nèi),當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后,促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。由于溫,蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能,則沿著視線方向徐徐上升,后附著于工件表面上堆積膜。用這種工藝形成的鍍層,與零件表面既無(wú)牢固的化學(xué)結(jié)合,有無(wú)擴(kuò)散連接,附著能很差,有時(shí)就像桌面上落的灰塵一樣,用手一摸也會(huì)擦掉。



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