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發布時間:2021-10-06 06:32  





物理氣相沉積和化學氣相沉積的區別
化學氣相沉積過程中有化學反應,多種材料相互反應,生成新的的材料。
物理氣相沉積中沒有化學反應,材料只是形態有改變。
物理氣相沉積技術工藝過程簡單,對環境改善,無污染,耗材少,成膜均勻致密,與基體的結合力強。
化學雜質難以去除。優點可造金屬膜、非金屬膜,又可按要求制造多成分的合金膜,成膜速度快,膜的繞射性好
以上內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,希望對同行業的朋友有所幫助!
化學氣相沉積的特點有哪些?
? 高溫石英管反應器設計
? 溫度范圍:室溫到1100度
? 多路氣體準確控制
? 標準氣壓計
? 易于操作
? 可配機械泵實現低壓TCVD
? 可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜
? 液體前驅體噴頭
沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年化學氣相沉積行業經驗,專注化學氣相沉積研發定制與生產,先進的化學氣相沉積生產設備和技術,建立了嚴格的產品生產體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話!!!
ICP刻蝕機的操作及判斷
1. 確認萬用表工作正常,量程置于200mV。
2.冷探針連接電壓表的正電極,熱探針與電壓表的負極相連。
3.用冷、熱探針接觸硅片一個邊沿不相連的兩個點,電壓表顯示這兩點間的電壓為正值,說明導電類型為P 型,刻蝕合格。相同的方法檢測另外三個邊沿的導電類型是否為P型。
4.如果經過檢驗,任何一個邊沿沒有刻蝕合格,則這一批硅片需要重新裝片,進行刻蝕。
沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產、銷售ICP刻蝕機,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!