南京納米鍍膜設備廠家按需定制「多圖」

影響鍍膜機磁控靶點火電壓的因素有哪些

靶材對點火電壓的影響

(1)陰極靶材的不同材質，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要很高的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機械尺寸大小有關。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機械尺寸大，相應充入工作氣體的數量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導電正離子和電子亦增多，導致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。

磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓

(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數值。

真空鍍膜設備工件是怎么去除氣的呢？

真空鍍膜設備如何操作,它的工件該怎么除氣

真空鍍膜產品普及到生活方方面面，真空鍍膜設備也就要求越來越高，很早以前物品鍍膜，只是為了耐用，防老化，隨著時間的推移，鍍膜現在不僅僅只是耐用，更多外形上的美觀。因此現在膜層已經花樣百出，顏色各不相同，甚至不同行業的，鍍膜設備的型號和功能也不盡相同，自然鍍膜工程師技術要求更高。然后鍍膜設備在運行的過程中，鍍膜工程師總會遇到工件除氣的問題，下面至成真空小編為大家講解一下真空鍍膜設備的操作方法及工件該如何去除氣。

真空鍍膜設備操作，大家剛開始接觸的時候，先記住步驟，后面再慢慢實踐，我們在準備操作鍍膜設備的時候，首先要檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置，然后打開總電源開關，真空鍍膜設備送電，再接著低壓閥拉出，開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。這時安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物，接著落下鐘罩，啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵，后面就要開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。設備當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。繼續開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。低壓閥拉出時，立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。

機械工具真空鍍膜設備

對機械工具的要求是生產速度更快、精度更高，但這會導致更高的負荷，從而產生更大的磨損，降低加工度和產品質量，為解決這一問題，至成鍍膜機廠家真空研發機械工具真空鍍膜設備，為機械工具元件（例如，變速箱、夾緊系統、螺紋軸、導軌和盤形凸輪）保證精度并起到適合的磨損保護作用。

機械工具真空鍍膜設備將夾緊系統的表面精度保持在較高的水平，特別是在批量生產中夾緊周期短或出現較高夾緊力的位置，可能存在不當的夾盤和夾頭磨損，這會影響精度，通過真空鍍膜設備加工的涂層可降低摩擦氧化和磨損，從而會提高夾緊系統的效率。

模具超硬膜離子鍍膜機

模具超硬膜離子鍍膜機是為模具鍍硬質或超硬保護膜而設計的。真空鍍膜機真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只圓形電弧蒸發源，或配多個矩形平面電弧蒸發源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。

工件可三維運動，提高膜層均勻性，全自動控制提高工藝穩定性，可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、TiAlCN、TiCrN、TiCrCN、TiAlCrN、多層超硬膜等，應用于精密模具業（沖壓模具、剪切模具、標準件模具、成型模具等）、工具行業（鉆頭、硬質合金、銑刀、拉刀、絲錐和齒輪刀具等），汽車工業（活塞、活塞環、合金輪轂等）。