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真空鍍膜設備的相關特性是什么呢?

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢？ 1.真空鍍膜設備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據需要設計涂層體系. 2.真空鍍膜設備節約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規濕法電鍍鍍層，達到節約的目的. 3.真空鍍膜設備無環境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環境的危害相當小。

磁控濺射鍍膜技術介紹

磁控濺射鍍膜技術介紹 磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術就是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應的物理化學手段來對金屬材料進行轉換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術含量更高，加工流程也更加復雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結合NCVM光學鍍膜技術，其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展，NCVM鍍膜憑借本身優越的性能，在真空電鍍技術領域脫穎而出，成為了電子消費品生產中的一項核心技術，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環境污染問題進行解決。

真空鍍膜機注意事項及保養

真空鍍膜機注意事項及保養 真空鍍膜機的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當溫度，熱蒸發成蒸氣分子材料，蒸發出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機廣泛應用于微電子，光學成膜，裝飾，表面工程等領域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設備長期穩定的運行，正確的使用及保養方法是必不可少的。 開機前要檢查水電氣是否正常，開機后，光控系統等于要先穩定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護板，防止離子源柵網損壞。為了使光學鍍膜機能正常工作，平時需要對機器進行保養，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設備及周邊環境，保持設備及環境的干凈。