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發布時間:2020-08-09 13:46  





射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時,靶極會產生自偏壓效應(即靶極會自動處于負電位狀態),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優點可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規模生產
磁控濺射
磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。
目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。2磁控濺射陰極結構:目前工業用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格:VT機:長×寬×厚(450。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。裝飾鍍的目的:主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤,同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業的各個領域,如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。
PVD技術的應用范圍及優缺點
其應用范圍是:
1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;
2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其優點是:
與傳統磁控濺射單色PVD技術相比,雙色PVD工藝更為復雜,流程更為繁雜,生產難度高,但外觀效果極佳,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。
傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。