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發布時間:2020-07-27 04:47  






湖北豐熱科技有限公司(原武漢離子熱處理研究所),專業制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業;是集研發、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐,并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。
濺射靶起輝放電后,當電源的輸出脈沖的重復頻率足夠高時,由于真空腔體內的導電離子還沒有完全被中和完畢,第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓與濺射靶的工作電壓接近或相同。當電源輸出脈沖的重復頻率很低(例如幾百HZ以下)或滅弧時間過長(大于100ms以上),濺射靶起輝放電后,由于真空腔體內的導電離子已基本被中和掉,第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓恢復至較高數值,與點火起輝時的高電壓接近或相同。當電子能f提高,也就是增強電場的操作參數,則能使電暈放電過渡到輝光放電。??
Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD,即當所用工作電壓頻率高到半個周期內可在極板之間捕獲正離子,又不高到使電子也被1捕獲時,將在氣體間隙中留下空間電荷,它們影響下半個周期放電,使所需放電場強明顯降低,有利于產生均勻的APGD。
Roth等人在實驗室的一臺氣體放電等離子體實驗裝置中實現了Ar、He和空氣的“APGD”。1993年Okazaki小組利用金屬絲網(絲直徑0.035mm,325目)電極為PET膜(介質)、頻率為50Hz的電源,在1.5mm的氣體(亞氣、氮氣、空氣)間隙中做了大量的實驗,并宣稱實現了大氣壓輝光放電。輝光放電是當氣體越過電暈放電區后,若減小外電路電阻,或提高全電路電壓,繼續增加放電功率,放電電流將不斷上升。
2003年,國家自然科學基2金委2員會將“大氣壓輝光放電”列為國家重點研究項目。APGD的研究也取得了一些進展,如He、Ne、Ar、Krypton惰性氣體在大氣壓下基本實現了APGD,空氣也已經實現了用眼睛看上去比較均勻的準“APGD”。兩種靶電源不同之處:選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源,因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續調節,鍍膜時電源的工藝參數適應范圍比“經濟型”中頻靶電源要寬很多。