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              保定六氟化硫制備性價比出眾,江蘇凱美電子

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              發布時間:2020-12-14 07:21  






              純凈的SF6氣體雖然無毒,但在工作場所要防止SF6氣體的濃度上升到缺氧的水平。SF6氣體的密度大約是空氣的五倍、SF6氣體如有泄漏必將沉積于低洼處,如電纜溝中。濃度過大會出現使人窒息的危險,設計戶內通風裝置時要考慮到這一情況。

                在電弧作用下SF6的分解物如SF4,S2F2,SF2,SOF2,SO2F2,SOF4和HF等,它們都有強烈的腐蝕性和毒性。因此在電力系統GIS等應用SF6的工作場所,要加裝SF6氣體泄漏監測設備。

              紅外光譜技術(IAC510)

              紅外光譜吸收技術(又稱激光技術)的原理是SF6作為溫室氣體,對特定波段的紅外光有很強烈的吸收特性。紅外光譜技術的特點是成本高,結構復雜,靈敏度高,不受環境的影響和干擾,對環境的溫度和濕度的變化所帶來的檢測誤差很小,由于其是采用主動抽取測試點氣體的原理,帶來的效果是發現泄漏早,反應迅速。紅外光譜技術的特點是成本高,結構復雜,靈敏度高,不受環境的影響和干擾,對環境的溫度和濕度的變化所帶來的檢測誤差很小,由于其是采用主動抽取測試點氣體的原理,帶來的效果是發現泄漏早,反應迅速。同時系統結構對工程實施中的布線也帶來了很大的方便。


              為什么六氟化硫氣體純度不純了?

               (1)六氟化硫氣體純度不純,出廠時含高毒性的低氟化硫、氟化氫等有毒氣體。其中極i少量的分解物,在重新結合的過程中與游離的金屬原子、水和氧發生化學反應,產生金屬氟化物及氧、硫的氟化物。大家知道,目前化工行業制造六氟化硫氣體的方法主要是采用單質硫磺與過量氣態氟直接化合反應而成;即S 3F2→SF6 Q(放出熱量) 。在合成的粗品中含有多種雜質,其雜質的組成和含量因原材料的純 度、生產設備的材質、工藝條件等因素的影響而有很大差異,雜質總含量可達5%。其組成有硫氟化合物,如:S2、F2、SF2、SF4 等;硫氟氧化合物如SOF2、SO2F2、 SOF4 等 以及原料中帶入的雜質如 HF、OF2、CF4、N2、O2等。為了凈化粗品中的雜質,合成后的 SF6氣體還需要經過水洗、堿洗、熱解(去除劇i毒的十氟化物) 、干燥、吸附、冷凍、蒸餾提純等一系列凈化處理過程才能得到純度在99.8%以上的產品。然后再用壓縮機加壓,充入降溫至 -80℃左 右的鋼瓶中,以液態形式存在。在使用時減壓放出,呈氣態沖入電氣設備中。

               除在上面的合成過程中產生的雜質外,另外, 在氣體的充裝過程中還可能混入少量的空氣、水分、和礦物油等雜質,這些雜質均帶有或會產生一定的毒性物質。該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時,還顯示出了極i佳的環保前景,近年來用量有明顯的提高。因此,為保證六氟化硫的純度和質量,對出廠的六氟化硫國際電工委i員會(IEC)及許多國家均制定了質量標準,并要求生產廠家在供貨時提供生物試驗無毒證明書。


              高純六氟化硫的應用

               六氟化硫的使用可以增加設備運行的安全性、縮小設備體積、延長設備壽命。近幾年,國家大力發展基礎電力行業,給六氟化硫廠家帶來了很大的市場機遇。


              高純六氟化硫(純度在99.99%以上),國內需求非常旺盛,而且附加值較高。

               高純六氟化硫主要用于半導體工業中作清洗氣體。

               六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一,近年來,各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。

               該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時,還顯示出了極i佳的環保前景,近年來用量有明顯的提高。

               據權i威機構預測,2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場,總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右,

               國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條,在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。催化氧化法金屬氧化物為催化劑,于300℃下,用空氣氧化四氟hua硫,該法缺點是收率過低。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求,半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口,這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。





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