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發(fā)布時(shí)間:2021-10-28 01:45  





真空鍍膜是指鈦、金、石墨、晶體等金屬或非金屬、氣體等材料在真空中濺射、蒸發(fā)或離子鍍?cè)诨w上的表面處理工藝。真空鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)鍍法相比,具有無(wú)污染環(huán)境、環(huán)保環(huán)保、對(duì)操作人員無(wú)危害、膜厚牢固、致密、耐腐蝕性強(qiáng)、膜厚均勻等優(yōu)點(diǎn)。
真空鍍膜加工表面的清洗解決很關(guān)鍵,會(huì)直接危及到電鍍工藝的產(chǎn)品質(zhì)量。加工件進(jìn)到真一定要保證鍍之前清洗干凈,表面污染來(lái)源于產(chǎn)品工件在加工、傳送、包裝過(guò)程中所黏附的各種各樣粉塵、潤(rùn)滑油、 汽車機(jī)油、拋光蠟、植物油脂、汗?jié)n等物。
真空鍍膜技術(shù)可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜技術(shù)性能優(yōu)良:真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好,孔隙率低,而且無(wú)氫脆現(xiàn)象,相對(duì)電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料。
待真空鍍膜電鍍的素材必須達(dá)到以上表面要求,才能進(jìn)爐真空爐體內(nèi)電鍍。一般情況下,素材表面在滿足使用的條件下,表面光潔度越好,膜層結(jié)合力越好,效果也越好。
鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。鍍膜應(yīng)用,簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
成膜有很多優(yōu)點(diǎn):可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合,則要求壓力更低。

真空鍍膜前工件表面的清洗很重要,直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前,工件必須仔細(xì)清洗。工件表面污染來(lái)源于加工、運(yùn)輸、包裝過(guò)程中附著在工件上的各種灰塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物質(zhì)。為了避免加工過(guò)程中產(chǎn)生的瑕疵,真空鍍膜廠家基本上可以通過(guò)脫脂或化學(xué)清洗的方式去除工件表面污跡。經(jīng)過(guò)清潔處理的物件表面不能存放在廠房中,而應(yīng)存放在密閉的容器或干凈的櫥柜中,以減少灰塵污染。
真空鍍膜反光杯價(jià)格