凹凸面曝光顯影報價高性價比的選擇【利成感光】

去膜：使用堿性溶液去除感光膠;

水洗：用二級流動水刷洗1～2min，使零件表面清潔，后放入 烘箱進行烘干;

上漆：對圖形、字符及符號進行填漆，;

裁邊制孔：精密剪板機裁剪外形;

涂敷清漆：對加工完成的銘牌表面涂TS01-3聚氨酯清漆。

所述步驟⑴中，繪制菲林感光膠片時，將感光膠片上的標識的筆 畫加粗，標識至少包括圖形、字符及符號。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻的原理是氧化bai還原反應中的置換反應：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。顯影就是在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。

指在攝影過程中進入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。反轉顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤，然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。