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發(fā)布時(shí)間:2020-10-01 15:06  





真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。
真空鍍膜加工與電鍍?nèi)莾苫厥聝骸U婵斟兡ぜ庸な前盐矬w放入真空室里,在真空狀態(tài)下把所要鍍的金屬加熱蒸發(fā),然后被鍍物體在里面轉(zhuǎn)動(dòng)把金屬顆粒吸附在被鍍物體表面,鍍后為了不使金屬顆粒氧化在表面再噴透明面油從而增加結(jié)合力和隔離空氣。一般來說真空鍍膜加工不能鍍的材料是那些表面柔軟易變形的材料,還有就是不易干燥的材料。電鍍一般是ABS塑料才可以處理成導(dǎo)電體再電鍍。
真空鍍膜廠家五金真空鍍膜廠
CVD真空鍍膜廠家的TAC膜層特點(diǎn)及應(yīng)用:本公司為客戶提供質(zhì)高價(jià)優(yōu)的鍍膜服務(wù),鍍制的主要膜層有TAC(金剛石膜),這種膜層有以下性能:
TAC膜層的特點(diǎn):
1. TAC(類金剛石)膜層有很高的硬度(HV6000),優(yōu)良的耐磨性能,摩擦系數(shù)極低(低至0.08),膜層厚度1-2um
2. 具有優(yōu)異的耐蝕性,能耐各種酸、堿等腐蝕。
3. 對金屬、塑料、橡膠、陶瓷等均有良好的抗粘結(jié)和防咬合性能
4. 表面粗糙度低(可達(dá)鏡面級)
5. 與基體結(jié)合力很強(qiáng),可以在各種鋼鐵、鈦合金、鋁合金、硬質(zhì)合金等材料上沉積
pvd真空鍍膜五金真空鍍膜廠
pvd真空鍍膜的功能原理是什么?
pvd真空鍍膜的原理主要是物理氣相沉積,其是當(dāng)前國際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基材上。
pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn),特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。