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發布時間:2021-08-03 14:55  






單面研磨機工作原理的三步走
單面研磨機工作原理的三步走 研磨機是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。研磨機的主要類型有圓盤式研磨機、轉軸式研磨機和各種研磨機。研磨機控制系統以PLC為控制核心,文本顯示器為人機對話界面的控制方式。人機對話界面可以就設備維護、運行、故障等信息與人對話;操作界面直觀方便、程序控制、操作簡單。安全考慮,非正常狀態的誤操作無效。實時監控,故障、錯誤報警,維護方便。 1.單面研磨機是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。 2.將被磨、拋材料放于研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉動,修正輪帶動工件自轉,重力加壓的方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉磨擦,來達到研磨拋光目的。 3.單面研磨機的研磨盤修整機構采用油壓懸浮導軌前后往復運動,金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進行精密修整,得到理想的平面效果。

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹
平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒,通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料,加工的表面形狀有平面,內、外圓柱面和圓錐面,凸、凹球面,螺紋,齒面及其他型面。加工精度可達IT5~IT01,表面粗糙度可達Ra0.63~0.01微米。平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關于平面研磨機加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒,通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料,加工的表面形狀有平面,內、外圓柱面和圓錐面,凸、凹球面,螺紋,齒面及其它型面。加工精度可達IT5~01,表面粗糙度可達R0.63~0.01微米。 2、平面研磨機研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研:又稱敷砂研磨,把液態研磨劑連續加注或涂敷在研磨表面,磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動,形成切削運動。②濕研一般用于粗研磨,所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研:又稱嵌砂研磨,把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質量的重要條件。在平面研磨中,一般要求:①工件相對研具的運動,要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近;②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面,以利于研具均勻磨損;③運動軌跡的曲率變化要小,以保證工件運動平穩;④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現周期性重復。為了減少切削熱,研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過0.3兆帕,精研壓力一般采用0.03~0.05兆帕。粗研速度一般為20~120米/分,精研速度一般取10~30米/分。

時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析
時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素,他是拋光元件化學拋光的重要組成部分。事實證明,當拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時,平面拋光研磨機拋光時的PH值應控制在11.25左右,這時候化學拋光和機械拋光的作用相平衡,拋光效果! 拋光液中PH值參數是衡量一種液體性能是否穩定的重要因素。很多拋光液使用者并沒有清楚的意識到這一點,他們往往對拋光液內的粒度分布,粒徑大小,均勻性,配比等感興趣,而忽略了一個重要的因素-PH值對整個液體狀的的影響。 在化學性質的液體中,PH值的大小影響著液體性能的穩定。拋光液一般在微酸或者微堿的時候,對平面拋光研磨機工件的拋光效果,所能達到的表面粗超度。當PH值偏堿性時,粗超度變大。所以在配置這種液體的時候,我們不能忽略這一點,一定要反復試驗,取得一個穩定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因為拋光液會隨著時間的變化而變化。由于某些工件在拋光時產生水解作用,在實際拋光過程中拋光液的pH值會隨拋光時間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開始先每隔15s測量一次,之后每隔1min測量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過程中pH值的變化規律。在對不含有堿金屬氧化物,不會與水產生水解反應,在平面拋光研磨機的拋光過程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。
