廣州玻璃高真空鋁鏡鍍膜機報價

蒸發真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

今天至成鍍膜機真空小編要為大家講的是蒸發真空鍍膜機的原理和性能，前一段時間還有一個新人問我這方面問題，今天我就把我的知道的闡述出來，和大家一起成長和提升。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。

瓷磚真空鍍膜設備

經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高，可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設備主要配置為陰極電弧蒸發源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設備特點：配強大抽氣系統，抽氣快，裝載量大，產能高，生產成本低?？梢陨a仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術可以得到各種彩色花紋圖案。經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高。

詳解手機行業的PVD鍍膜技術

詳解手機行業的PVD鍍膜技術 PVD是英文PhysicalVaporDeition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。 PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是快的，它已經成為當今先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。 PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。