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發(fā)布時(shí)間:2021-10-16 03:57  
化學(xué)方法這種方法是無(wú)電流作用,利用化學(xué)物質(zhì)相互作用,在工件表面形成鍍覆層。其中主要的方法是:(一)化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理在電解質(zhì)溶液中,金屬工件在無(wú)外電流作用,由溶液中化學(xué)物質(zhì)與工件相互作用從而在其表面形成鍍層的過(guò)程,稱(chēng)為化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理。如金屬表面的發(fā)藍(lán)、磷化、鈍化、鉻鹽處理等。(二)化學(xué)鍍?cè)陔娊赓|(zhì)溶液中,工件表面經(jīng)催化處理,無(wú)外電流作用,在溶液中由于化學(xué)物質(zhì)的還原作用,將某些物質(zhì)沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程,稱(chēng)為化學(xué)鍍,如化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅等。
真空法這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程。其主要方法是。(一)物理氣相沉積(PVD)在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層的過(guò)程,稱(chēng)為物理氣相沉積,其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。(二)離子注入高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過(guò)程,稱(chēng)為離子注入,如注硼等。(三)化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時(shí)也在常壓)下,氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過(guò)程,稱(chēng)為化學(xué)氣相鍍,如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
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