氣相沉積設備廠家值得信賴

鍍膜技術在平板顯示器中的應用

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說：沒有薄膜技術就沒有平板顯示器件。

鍍膜技術在太陽能利用方面的應用

當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。

鍍膜技術在防偽技術中的應用

　　防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術在光學儀器中的應用

　　人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

未來發展策略

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，復蘇充滿不確定性，經濟處于繼續探底過程，真空鍍膜設備制造企業應著力進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境污染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等制造業將以信息化融合為，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，制造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等制造業價值鏈挺進。

蒸發式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之知一。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發專源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。