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真空鍍膜機的陰極電弧技術

真空鍍膜機的陰極電弧技術是利用真空環境下的弧光放電，使固體陰極靶材蒸發、離化并通過等離子體的強化作用，飛向陽極基體表面沉積成膜的技術。正因為如此，陰極電弧技術具有極高的沉積速率。

在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在基體表面，具有高能量的離子束對于提高膜基結合力和打亂膜的柱狀晶結構是非常有利的，從而也可大幅度改善膜的組織結構和力學性能。目前，各薄膜設備制造商通過對成膜原理和工藝的研究采用各種不同的措施來減少“液滴”的產生。

其中BAI1200、RCS是采用圓形平面陰極源技術和輻射加熱技術,可進行快速鍍膜生產。利用該工藝制備的TiAlN可增強加工工具切削刃的穩定性，并使干切削加工成為可能。

真空鍍膜機中電磁控制的發展

真空鍍膜機在現在對產品的表面處理上具有的優勢還是比較明顯的，這種鍍膜機械比起其他的表面處理設備來說，在加工方面，本身是需要在真空的環境中進行的，這樣的鍍膜方式就把外界的一些影響因素給“屏蔽”了，這是這種真空鍍膜機的一個優勢之處。

而對于真空鍍膜機械來說，目前的電路的發展也十分迅速，很多電子化的產品也被運用到電路當中，也使得這些機械逐漸發展成為了電動化、自動化的設備。

其中濺控濺射鍍膜機就是比較好的一類代表，作為一種裝置來說，它也是體現出真空鍍膜技術先進手段的代表，利用磁力進行控制，通電產生的電磁效用等都對鍍膜技術進行輔助。

可以說是目前表面處理技術中值得關注的一類，而電磁控制的鍍膜機械的產生對現在的鍍膜設備來說，提高了鍍膜時候膜層的粒子量，這是這種鍍膜機械的主要運用了。

真空鍍膜設備選購要點分析

真空鍍膜設備選購要點分析如下：

1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

2、根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

3、夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉 自轉方式，用戶可根據基片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。

4、真空系統由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

5、根據工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等），真空測量可選擇數字式智能真空計及其的測量規管，及其它測量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。

6、充氣方式可選用質量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應流量參數。

7、根據需烘烤的結構提出烘烤溫度、材質以及所需配備相應儀表測量。

8、根據設備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。

9、完善的報警系統，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。