韶關(guān)亞克力面板生產(chǎn)廠家PMMA面板

通常鏤空蝕刻細(xì)保留線 條在 0.3mm 左右，而我公司能生產(chǎn)出 0.1mm 左右的細(xì)線條。影響側(cè)蝕的因素有很多﹐下面將概述幾點(diǎn)﹕蝕刻方式﹕浸泡和鼓泡式蝕刻會(huì)造成較大的側(cè)蝕﹐潑濺和噴淋式蝕刻的側(cè)蝕較小﹐尤以噴淋蝕刻的效果很好。通常表 面蝕刻能達(dá)到 0.15mm 線條，而我公司能生產(chǎn)出 0.04mm 細(xì)線條。 所以叫做精細(xì)蝕刻。 精細(xì)蝕刻其工藝流程基本上與普通蝕刻一樣， 即： 基材清洗——印抗蝕油墨——烘干——曝光——顯影——蝕刻——去膜 ——電鍍 基本操作如下： 1.1 圖案與菲林制作 因?yàn)榫?xì)蝕刻的產(chǎn)品已進(jìn)入藝術(shù)品的范疇，所以制圖時(shí)應(yīng)將造 型、布局、色彩，特別是光線反射等諸多藝術(shù)效果的因素與生產(chǎn)工藝 所允許的條件完好的結(jié)合起來。

在印制電路工業(yè)的傳統(tǒng)知識(shí)里﹐特別是印制電路原料的供貨商們皆認(rèn)同﹐并得經(jīng)驗(yàn)證 實(shí)﹐氨性蝕刻液中的一價(jià)銅離子含量越低﹐反應(yīng)速度就越快。 事實(shí)上﹐許多的氨性蝕刻液 產(chǎn)品都含有價(jià)銅離子的特殊配位基（一些復(fù)雜的溶劑）﹐其作用是降低一價(jià)銅離子（產(chǎn)品具 有高反應(yīng)能力的技術(shù)秘訣）﹐可見一價(jià)銅離子的影響是不小的。 將一價(jià)銅由 5000ppm 降至 50ppm, 蝕刻速率即提高一倍以上。例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達(dá)到4。 由于在蝕刻反應(yīng)的過程中會(huì)生成大量的一價(jià)銅離子, 而一價(jià)銅離子又總是與氨的絡(luò)合 基緊緊的結(jié)合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困難的。

蝕刻液的 PH 值﹕

堿性蝕刻液的 PH 值較高時(shí)﹐側(cè)蝕會(huì)增大。 為了減少側(cè)蝕﹐PH 值一般應(yīng)控制在 8.5 以下。 蝕刻液的密度﹕ 堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕﹐選用高銅濃度的蝕刻液對(duì)減少側(cè)蝕非常有利。 銅箔厚度﹕ 要達(dá)到小側(cè)蝕的細(xì)導(dǎo)線的蝕刻﹐采用（超）薄銅箔。 而且線寬越細(xì)﹐銅箔厚度應(yīng)越 薄。 因?yàn)? 銅箔越薄在蝕刻液中的時(shí)間會(huì)越短﹐側(cè)蝕量就越小。要達(dá)到這一個(gè)要求﹐必須保證蝕刻液在蝕刻的整個(gè)過程始終保持在很好的蝕刻狀態(tài)。 2. 提高基板與基板之間蝕刻速率的一致性 在連續(xù)的板蝕刻中﹐蝕刻速率的一致性越高﹐越能獲得蝕刻均勻的板。 要達(dá)到這一 個(gè)要求﹐必須保證蝕刻液在蝕刻的整個(gè)過程始終保持在很好的蝕刻狀態(tài)。