工業(yè)廢氣處理設(shè)備誠(chéng)信企業(yè)推薦【廈門(mén)恒綠環(huán)保】

不僅能耗高，而且導(dǎo)致印刷車(chē)間內(nèi)廢氣無(wú)組織散發(fā)嚴(yán)重。3、末端治理方面，出于降低成本原因，部分印刷企業(yè)擅自閑置治理設(shè)施，或者故意使治理設(shè)施處于不正常運(yùn)行狀態(tài)。印刷廢氣處理設(shè)備RTO印刷行業(yè)內(nèi)的廢氣處理設(shè)備：印刷有機(jī)廢氣治理應(yīng)用廣泛的技術(shù)包括吸附法、熱力氧化、光催化氧化、生物法等，但單一的治理技術(shù)存在缺陷，比如：活性炭吸附更換周期短、不耐濕度和高溫（低于120℃脫附），產(chǎn)生大量危廢；光催化對(duì)濃度大于0.03%的有機(jī)廢氣無(wú)法實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

正虹等離子-催化氧化設(shè)備在處理VOCs上的特點(diǎn)在這些項(xiàng)目中體現(xiàn)的淋漓盡致，經(jīng)檢測(cè)，處理過(guò)后的尾氣排放達(dá)到國(guó)家及地方相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，成功通過(guò)驗(yàn)收。現(xiàn)場(chǎng)安裝圖“低溫等離子體技術(shù)在VOCs治理工程中應(yīng)用安全性研討會(huì)”關(guān)于低溫等離子體技術(shù)使用安全性的建議（1）低溫等離子體技術(shù)適用于低濃度VOCs廢氣（一般宜低于300mg/m3）治理，且廢氣濃度應(yīng)下限，確保在危險(xiǎn)。（2）對(duì)于含油霧或漆霧等顆粒物的廢氣，應(yīng)配效過(guò)濾等適宜的預(yù)處理工藝，確保低溫等離子體處理設(shè)備的安全性。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

于低溫等離子體技術(shù)使用安全性的建議（1）低溫等離子體技術(shù)適用于低濃度VOCs廢氣（一般宜低于300mg/m3）治理，且廢氣濃度應(yīng)遠(yuǎn)低于下限，確保不存在危險(xiǎn)。（2）對(duì)于含油霧或漆霧等顆粒物的廢氣，應(yīng)配置過(guò)濾等適宜的預(yù)處理工藝，確保低溫等離子體處理設(shè)備的安全性。（3）啟動(dòng)低溫等離子體單元之前，需先啟動(dòng)風(fēng)機(jī)吹掃處理系統(tǒng)，以防止放電火花引燃積聚的高濃度有機(jī)物。（4）對(duì)電極和器壁上的沉積物應(yīng)及時(shí)進(jìn)行清理維護(hù)。（5）從低溫等離子產(chǎn)品生產(chǎn)和使用全過(guò)程強(qiáng)化產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、運(yùn)行維護(hù)各個(gè)環(huán)節(jié)的監(jiān)測(cè)、預(yù)報(bào)警、應(yīng)急處置等安全措施。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制