舟山光刻板優選商家

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區域，使該區域的光刻膠（通常為正膠）發生光化學反應

經過顯影、定影后，曝光區域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層

刻蝕或離子注入完成后，將進行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進行半導體器件制造的其他步驟。通常，半導體器件制造整個過程中，會進行很多次光刻流程。光掩膜有掩膜原版(reticlemask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進機重復將比例縮小到mastermaks上，應用到實際曝光中的為工作掩膜(workingmask)，工作掩膜由mastermask復i制過來。生產復雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻，而生產薄膜所需的光刻次數會少一些。

掩膜版是對勻膠鉻版經過光繪加工后的產品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構成的。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據基板材質的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。