絲印面板價格誠信企業「在線咨詢」

通常鏤空蝕刻細保留線 條在 0.3mm 左右，而我公司能生產出 0.1mm 左右的細線條。通常表 面蝕刻能達到 0.15mm 線條，而我公司能生產出 0.04mm 細線條。 所以叫做精細蝕刻。要達到這一個要求﹐必須保證蝕刻液在蝕刻的整個過程始終保持在很好的蝕刻狀態。 精細蝕刻其工藝流程基本上與普通蝕刻一樣， 即： 基材清洗——印抗蝕油墨——烘干——曝光——顯影——蝕刻——去膜 ——電鍍 基本操作如下： 1.1 圖案與菲林制作 因為精細蝕刻的產品已進入藝術品的范疇，所以制圖時應將造 型、布局、色彩，特別是光線反射等諸多藝術效果的因素與生產工藝 所允許的條件完好的結合起來。

蝕刻液的 PH 值﹕

堿性蝕刻液的 PH 值較高時﹐側蝕會增大。 為了減少側蝕﹐PH 值一般應控制在 8.5 以下。 蝕刻液的密度﹕ 堿性蝕刻液的密度太低會加重側蝕﹐選用高銅濃度的蝕刻液對減少側蝕非常有利。 銅箔厚度﹕ 要達到小側蝕的細導線的蝕刻﹐采用（超）薄銅箔。 而且線寬越細﹐銅箔厚度應越 薄。 因為, 銅箔越薄在蝕刻液中的時間會越短﹐側蝕量就越小。目前，我國人造木材行業應用的模具板主要是從歐洲進口，不僅價格昂貴，而且修復困難，因此不銹鋼模具板的國產化勢在必行。 2. 提高基板與基板之間蝕刻速率的一致性 在連續的板蝕刻中﹐蝕刻速率的一致性越高﹐越能獲得蝕刻均勻的板。 要達到這一 個要求﹐必須保證蝕刻液在蝕刻的整個過程始終保持在很好的蝕刻狀態。

光刻和蝕刻技術，用光膠、掩膜、和紫外光進行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻 三個工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜，薄膜的厚度為數埃到幾十微米，稱為薄膜 沉積。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一層光膠，將掩膜上微流控芯片設計 圖案通過曝光成像的原理轉移到光膠層的工藝過程稱為光刻。 ? 光刻的質量則取決于光抗蝕劑（有正負之分）和光刻掩膜版的質量。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）時，在圖形區和非圖形區產生不同的光吸收和 透過能力。標牌的圖紋腐蝕深度要求達到0．6mm左右，而且腐蝕部分不能太光亮，與基體板材形成對比反差，使具有一定的金屬質感和裝飾藝術感。