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氦質譜檢漏儀概述

氦質譜檢漏儀為氣體工業領域名詞術語，用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質譜儀。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數小，因而易通過漏孔并易擴散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調整到僅對氦氣反應的工作狀態）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。

氦質譜檢漏儀是如何工作的？

氦質譜檢漏儀由離子源、分析器、真空系統、電子線路及其他電氣部分組成。為了方便解釋氦質譜檢漏儀是如何工作的，我們以磁偏轉型的氦質譜檢漏儀為例進行說明。

在質譜室的離子源N內，氣體被電離成離子。在電場作用下離子聚焦成束，并以一定的速度經由縫隙S1進入磁分析器，在均勻磁場的作用下，具有一定速度的離子束，將按圓形軌跡運動。調節加速電壓U使氦離子束M2恰能通過縫隙S2到達收集極K而形成離子流。利用弱電流量測設備，使之在輸出儀表與音響裝置上反映出來。而其他不同于M2的離子束（如圖中M1，M3）則以不同的偏轉半徑而被分開。

氦質譜檢漏儀的結構

氦質譜檢漏儀離子源的作用是使氣體分子電離，形成一束具有一定能量的離子。它由燈絲(陰級)、離化室及離子加速極組成。

燈絲在真空中通電加熱后發射電子，在離化室與燈絲之間的電場作用下，電子加速穿過離化室頂部狹縫進入離化室，在離化室中與氣體分子發生多次碰撞后損失能量，Z后打到離化室上形成電子流，成為發射電流的一部分。電子在運動的過程中碰撞氣體分子而使氣體分子電離形成正離子，正離子在離化室與加速極之間的電壓U(即離子加速電原)作用下，相繼穿過離化室正面的矩形狹縫和加速極的矩形狹縫，由于加速電場對離子做的功轉變為離子的動能，便形成具有一定能量的離子束。

真空法氦質譜檢漏

采用真空法檢漏時，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產品內部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產品外表面施氦氣，當被檢產品表面有漏孔時，氦氣就會通過漏孔進入被檢產品內部，再進入氦質譜檢漏儀，從而實現被檢產品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產品外表面噴吹氦氣，可以實現漏孔的準確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來，在罩內充滿一定濃度的氦氣，可以實現被檢產品總漏率的測量。