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真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。

為什么需要進行真空鍍膜呢？(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不僅如此，還可以節約能源，獲得更為顯著的技術經濟效益。

實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產品，蒸發鍍主要用于塑膠產品，光學離子鍍主要用于璃玻產品。納米涂層在顯微鏡上觀察有多個納米顆粒組成，相臨的納米顆粒之間形成極細小的氣孔，氣孔遠小于水分子，表面氣孔產生氣墊效應，從而托住水分子，達到斥水斥油污的目的，同時由于顆粒之間的不平整，導致水滴在膜層表面的接觸角變大，使水滴輕易的滑落。真空電鍍為磁控濺射鍍，以電鍍不銹鋼產品材質為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍色等顏色，質量穩定，品質保障。

真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等，如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。由于一層膜只能減少特定波長光的反射,減少較寬光譜的光線反射需要多層鍍膜,因而影響減反射膜效果的一個重要技術指標是鍍膜的層數。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜技術被譽為發展前途的重要技術之一 ，鍍膜公司并已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環保、軍事等領域。

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，真空鍍膜對于蒸發源與被鍍制品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

手機真空防水鍍膜機蒸發鍍膜設備的工作原理, 蒸發鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術，該技術具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術成熟、成本低廉等特點。

真空蒸鍍技術已經廣泛應用于OLED、有機光伏、光學膜、新型半導體、裝飾鍍膜等領域，為一種鍍膜技術。