曝光顯影廠家服務至上

正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。反轉顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。

顯影不凈就是本身該被蝕刻液蝕刻掉的部du分，比如PAD上的zhi油墨，沒有全部蝕刻掉?？吹絛aoPAD上有發黑，多呈塊狀或 毛邊狀。用肉眼就能看的出來。如果是孔的油墨沒有蝕刻干凈就叫“孔內顯影不凈”，用肉眼一般也看得出來，也可以用低倍目鏡看。導致的原因較多，通?？紤]UV光是否正常，即曝光機是否工作正常。預烘烤時間過長也會導致顯影不凈。蝕刻液有問題或濃度較低等等都會導致時刻不凈。

在菲林底片和曝光機橡皮膜之間墊一張深色或紅色或深黃色的防粘紙。防粘紙與菲林底片之間不會產生粘連，即使橡皮膜有滑動，也不易帶動菲林底片移動。要在防粘紙上適當開些小孔，以利于抽真空時把其中的氣泡抽出。此法生產效率較高，但有時還會發生偏移，不能杜絕。

在曝光機橡皮膜接觸菲林底片一側粘上一塊絨布，絨毛朝菲林底片，絨布的背面繞上幾圈銅絲，銅絲與橡皮膜的接地線相連，防止絨布產生靜電。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

這被稱作為“抗蝕層”。在蠟層中刻出圖案，使底下的金屬部分顯露出來。制備好的金屬材料被浸漬在鹽酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的區域被刻蝕到所需的深度。之后將抗蝕層清除，就可展現出蝕刻的成品樣子。燙金或者發黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統雕刻更方便而代價更少。