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發(fā)布時間：2020-08-03 05:15
真空腔體
真空腔體是內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器,很多先進的技術(shù)工藝均需要在真空或惰性氣體保護條件下完成,真空腔體是這些工藝過程中重要的基礎(chǔ)設(shè)備.
根據(jù)真空度國標(biāo)真空被分為低真空（100000-100Pa）,中真空（100-0.1Pa）,高真空（0.1-10-5Pa）,超高真空（10-5-10Pa）。3*10-10mbar*l/s2、水冷水壓檢測：8公斤24小時無泄漏檢測。低真空主要應(yīng)用于隔熱及絕緣、金屬熔煉脫氣、無氧化加熱、真空冷凍及干燥和低壓風(fēng)洞等;高真空主要應(yīng)用于真空冶金、真空鍍膜設(shè)備等領(lǐng)域;超高真空則偏向物理實驗方向。
真空腔體常用的清洗方法
1、超聲波清洗
超聲波清洗是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用,使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的.
2、電解侵蝕清洗
電解侵蝕清洗類似于電解拋光,是指在溶劑中利用電解作用,清除金屬部件表面上的薄銹或氧化膜等污染物,主要用于化學(xué)穩(wěn)定性較高的合金部件,如不銹鋼,耐熱鋼等.
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真空腔體優(yōu)勢及特性
——按照客戶要求，加工訂制；
——一對一專業(yè)出圖設(shè)計；
——可配套真空機組系統(tǒng)；
——耐高溫、耐腐蝕；
——高質(zhì)量、；
加工工藝，完全采用真空焊接技術(shù)拼裝焊接；
先進的真空撿漏設(shè)備，更加保證產(chǎn)品的優(yōu)越性；
超高真空主要應(yīng)用在離子鍍膜、高真空半導(dǎo)體設(shè)備、實驗室設(shè)備等對環(huán)境要求極高的真空領(lǐng)域。
我公司采用三維建模軟件，按照實際比例建立3D模型，根據(jù)客戶文字、語言草圖等需求表述，專業(yè)設(shè)計出適合客戶所需產(chǎn)品方案（在方案定稿之前所有設(shè)計不收取任何費用）。
為了生產(chǎn)出匹配客戶需求的產(chǎn)品，需要告知我公司以下幾個問題點：
1、產(chǎn)品在使用過程中是否有溫度產(chǎn)生，高溫和低溫分別是多少攝氏度，是否需要通水或液氮冷卻等內(nèi)外在因素。
2、對產(chǎn)品材質(zhì)是否有特殊要求，真空領(lǐng)域腔體常用材質(zhì)為：碳鋼、鋁、304不銹鋼、316不銹鋼等
3、產(chǎn)品的鏈接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等
4、腔體真空度的要求，腔體抽完真空以后是否需要沖入保護氣體或其他氣體。
通常常見真空腔體技術(shù)性能：
材質(zhì)：304不銹鋼或客戶材質(zhì)。
腔體適用溫度范圍：-190℃~ 1500℃（需加水冷卻）
密封方式：氟膠“O”型圈或金屬無氧銅密封圈
出廠檢測事項：
1、真空漏率檢測：標(biāo)準(zhǔn)檢測漏率：1.3*10-8Pa●L/S
2、水冷水壓檢測：標(biāo)準(zhǔn)檢測壓力：8公斤24小時無泄漏檢測。
內(nèi)外表面處理：拉絲拋光處理、噴砂電解處理、酸洗處理、電解拋光處理和鏡面拋光處理等。
